激光化学气相沉积光掩模版修复系统的研究

摘要	第1-5页
Abstract	第5-8页
1 绪论	第8-15页
·光掩模缺陷及其修复方法概述	第8-10页
·激光诱导化学沉积的分类	第10-12页
·激光化学气相沉积的研究概况	第12-13页
·本课题的研究内容和意义	第13-15页
2 激光化学气相沉积的理论分析	第15-23页
·激光化学气相沉积原理	第15-18页
·掩模版亮场缺陷修复实验原理	第18-20页
·影响沉积质量的主要因素	第20-22页
·本章小结	第22-23页
3 掩模版修复系统的设计	第23-34页
·激光器的选择与光束控制	第23-25页
·反应室的设计	第25-30页
·气体控制系统的设计	第30-32页
·实验步骤设计	第32-33页
·本章小结	第33-34页
4 激光化学气相沉积的实验研究	第34-44页
·原理性实验	第34-35页
·反应室的改进与激光辐射时间的实验	第35-39页
·激光功率实验分析	第39-41页
·沉积薄膜性能测试	第41-42页
·系统设计改进建议	第42-43页
·本章小结	第43-44页
5 全文总结	第44-45页
致谢	第45-46页
参考文献	第46-50页
附录1 攻读学位期间发表论文目录	第50页