投影光刻系统套刻对准技术的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-15页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·光刻机的性能参数 | 第10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-12页 |
| ·莫尔条纹对准技术在投影光刻系统中的应用 | 第12-13页 |
| ·投影光刻技术在微光学元件加工中的应用 | 第13页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第13-15页 |
| 第2章 投影光刻系统 | 第15-27页 |
| ·引言 | 第15页 |
| ·光致抗蚀剂 | 第15-17页 |
| ·二元套刻技术 | 第17-19页 |
| ·光刻系统分类 | 第19-22页 |
| ·接触式/接近式光刻系统 | 第19-20页 |
| ·投影光刻系统 | 第20-21页 |
| ·下一代光刻系统 | 第21-22页 |
| ·投影光刻系统 | 第22-26页 |
| ·分辨率和焦深 | 第23-24页 |
| ·曝光光源 | 第24-25页 |
| ·投影光刻物镜 | 第25-26页 |
| ·小结 | 第26-27页 |
| 第3章 套刻对准技术 | 第27-37页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·对准方法分类 | 第27-28页 |
| ·明场和暗场对准方法 | 第27-28页 |
| ·光栅衍射对准方法 | 第28页 |
| ·离轴和同轴对准相结合的对准技术 | 第28页 |
| ·视频图像对准技术 | 第28页 |
| ·莫尔（Moiré）条纹对准技术 | 第28-36页 |
| ·Moiré条纹概论 | 第29-31页 |
| ·Moiré条纹的特点 | 第31页 |
| ·Moiré条纹的生成机理 | 第31-34页 |
| ·Moiré条纹应用于光刻对准 | 第34-36页 |
| ·小结 | 第36-37页 |
| 第4章 投影光刻系统的构建 | 第37-55页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·掩模板及对准标记的设计 | 第37-41页 |
| ·掩模板的设计 | 第37-39页 |
| ·对准标记的设计 | 第39-41页 |
| ·投影光刻系统的构建 | 第41-45页 |
| ·投影光刻系统的设计 | 第41-42页 |
| ·各部分组成 | 第42-45页 |
| ·系统组装 | 第45页 |
| ·光刻工艺步骤 | 第45-51页 |
| ·基片预处理 | 第46页 |
| ·涂胶 | 第46-47页 |
| ·前烘 | 第47页 |
| ·曝光 | 第47-48页 |
| ·后烘 | 第48页 |
| ·显影、定影 | 第48页 |
| ·硬烘（坚膜） | 第48-49页 |
| ·刻蚀 | 第49-50页 |
| ·去胶 | 第50页 |
| ·对准 | 第50-51页 |
| ·第二次曝光 | 第51页 |
| ·实验结果及分析 | 第51-54页 |
| ·在铬版上制作微光学元件 | 第51-53页 |
| ·套刻实现 4 台阶浮雕结构 | 第53页 |
| ·投影光刻系统的实验效果 | 第53-54页 |
| ·实验误差 | 第54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 第5章 结论和展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 发表论文情况说明 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 附录 | 第63-65页 |
