光刻仿真中二维掩模近场的扩展傅立叶分析和严格耦合波分析
| 论文摘要(中文) | 第1-5页 |
| 论文摘要(英文) | 第5-7页 |
| 1 引言 | 第7-9页 |
| 2 光刻成像系统概述 | 第9-16页 |
| ·光刻过程 | 第9-11页 |
| ·照明系统 | 第9-10页 |
| ·掩模 | 第10页 |
| ·投影系统 | 第10页 |
| ·光刻胶 | 第10-11页 |
| ·步骤参数 | 第11-13页 |
| ·数值孔径 | 第11页 |
| ·分辨率 | 第11-12页 |
| ·焦深 | 第12页 |
| ·部分相干因子 | 第12-13页 |
| ·分辨率增强技术 | 第13-16页 |
| ·离轴照明 | 第13-14页 |
| ·光学邻近效应矫正 | 第14页 |
| ·相移掩模 | 第14-16页 |
| ·浸没式光刻 | 第16页 |
| 3 扩展傅立叶衍射理论 | 第16-19页 |
| ·傅里叶衍射模型 | 第16-17页 |
| ·扩展傅立叶衍射理论 | 第17-19页 |
| ·二元掩模的近似模型 | 第17-18页 |
| ·交替式相移掩模的近似模型 | 第18-19页 |
| 4 严格耦合波理论 | 第19-24页 |
| ·TE偏振时的严格耦合波分析 | 第20-22页 |
| ·TM偏振时的严格耦合波分析 | 第22-24页 |
| 5 扩展傅立叶衍射理论仿真结果及分析 | 第24-28页 |
| ·二元掩模 | 第24-26页 |
| ·衰减式相移掩模 | 第26-28页 |
| 6 严格耦合波理论仿真结果及分析 | 第28-36页 |
| ·标量衍射理论与严格耦合波理论的比较 | 第28-29页 |
| ·二元掩模的严格耦合波仿真结果及分析 | 第29-33页 |
| ·二元掩模TE偏振仿真结果及分析 | 第30-31页 |
| ·二元掩模TM偏振仿真结果及分析 | 第31-32页 |
| ·二元掩模近场分布 | 第32-33页 |
| ·衰减式相移掩模仿真结果及分析 | 第33-36页 |
| ·衰减式相移掩模TE偏振仿真结果及分析 | 第33-34页 |
| ·衰减式相移掩模TM偏振仿真结果及分析 | 第34-35页 |
| ·衰减式相移掩模近场分布 | 第35-36页 |
| 7 结论 | 第36-38页 |
| 参考文献 | 第38-40页 |
| 致谢 | 第40页 |
