数字光刻制作微光学器件的评价研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-16页 |
| ·课题研究背景及意义 | 第9-10页 |
| ·微光学器件及其评价方法的研究现状 | 第10-13页 |
| ·微光学器件的国内外发展现状 | 第10-11页 |
| ·微光学器件评价方法的研究现状 | 第11-13页 |
| ·微纳检测技术 | 第13-15页 |
| ·光学干涉测试技术 | 第13-14页 |
| ·微纳形貌检测技术 | 第14-15页 |
| ·本论文研究的主要工作及内容安排 | 第15-16页 |
| ·主要研究工作 | 第15页 |
| ·论文具体章节安排 | 第15-16页 |
| 第2章 数字光刻系统 | 第16-25页 |
| ·引言 | 第16页 |
| ·光源照明系统 | 第16-18页 |
| ·数字微镜装置DMD | 第18-22页 |
| ·DMD的基本结构 | 第18-20页 |
| ·DMD的工作原理 | 第20页 |
| ·DMD的特性 | 第20-22页 |
| ·工件台系统 | 第22-23页 |
| ·精缩物镜 | 第23-24页 |
| ·精缩物镜结构 | 第23页 |
| ·精缩物镜特性 | 第23-24页 |
| ·小结 | 第24-25页 |
| 第3章 系统误差分析 | 第25-40页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·照明系统引入的误差 | 第25-30页 |
| ·曝光光束的均匀度 | 第25-26页 |
| ·光源功率稳定性影响 | 第26-27页 |
| ·扩束准直后光斑的平行度影响 | 第27-30页 |
| ·DMD的影响 | 第30-32页 |
| ·DMD刷新率测试 | 第30页 |
| ·DMD偏振特性测试 | 第30-31页 |
| ·误差因素分析 | 第31-32页 |
| ·光学系统的影响 | 第32-35页 |
| ·衍射受限 | 第32-34页 |
| ·平台系统的影响 | 第34-35页 |
| ·光刻胶曝光响应曲线非线性的影响 | 第35-36页 |
| ·显影影响 | 第36-38页 |
| ·显影原理分析 | 第36-37页 |
| ·显影误差分析 | 第37-38页 |
| ·刻蚀影响 | 第38-39页 |
| ·小结 | 第39-40页 |
| 第4章 微光学器件的评价 | 第40-60页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·二元光栅的评价 | 第40-46页 |
| ·数字光刻制作二元光栅的评价 | 第40-41页 |
| ·二元光栅衍射效率的影响因素 | 第41-45页 |
| ·二元光栅制作结果评价 | 第45-46页 |
| ·Dammann光栅的评价 | 第46-50页 |
| ·数字光刻制作Dammann光栅的评价 | 第47-48页 |
| ·Dammann光栅特性分析 | 第48-49页 |
| ·Dammann光栅制作结果评价 | 第49-50页 |
| ·微透镜阵列的评价 | 第50-59页 |
| ·数字光刻制作微透镜阵列的评价 | 第50-51页 |
| ·面形误差 | 第51-53页 |
| ·填充因子 | 第53-54页 |
| ·阵列均匀性 | 第54页 |
| ·像质评价 | 第54-57页 |
| ·微透镜阵列制作结果评价 | 第57-59页 |
| ·小结 | 第59-60页 |
| 第5章 结论与展望 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
