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半导体器件制造工艺及设备
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光刻、掩膜
SU-8胶接触式UV光刻模拟
电化学刻蚀方法制备多孔InP研究
基于SOCS的光学光刻系统仿真算法的研究
介质膜光栅：光刻胶掩模占宽比和离子束刻蚀槽深的监控
极紫外投影光刻掩模若干问题研究
利用激光直写制作灰度掩模技术研究
感应耦合等离子体刻蚀及应用研究
极紫外投影光刻中若干关键技术研究
激光直写光刻技术研究
等离子体刻蚀轮廓的数值研究
硅微通道列阵电化学微加工技术研究
InGaAs/InP PIN光探测器的激光微细加工制作
化学增幅光刻胶及其在电子束光刻中的应用
相位光栅对准技术研究
0.18微米侧壁（Spacer）干法刻蚀工艺的开发与优化
半导体光刻工艺中图形缺陷问题的研究及解决
基于DMD的数字无掩模光刻成像系统设计
微米工艺实现纳米级CMOS器件方法及技术研究
光刻工艺中的焦距异常发生原因分析及解决办法
基于亚波长光栅的纳米压印模板工艺及光学仿真研究
65nm金属沟槽刻蚀工艺研发
对光刻工艺中在光阻底部增加抗反射涂层（BARC）的研究
光刻工艺中对线宽和套刻系统性控制的开发
0.35微米BiCMOS光刻工艺参数的优化
深紫外光照射延缓光罩结晶生长的研究
浅沟道隔离层小球状缺陷的改善研究
分栅型闪存中浮栅氮化物硬掩膜层蚀刻工艺的优化
刻蚀腔环境对电介质刻蚀混合制程的影响研究
通孔刻蚀的检测技术研究
曲面金属—电介质多层复合结构超分辨特性及其光刻效应研究
基于UV-LIGA光刻技术的曝光及后烘过程仿真研究
用于无掩膜刻蚀的微小等离子体反应器的工艺制备和性能测试
电子束光刻邻近效应的计算机模拟
三苯胺多枝化合物为引发剂的光刻胶过程作用的研究与含三苯胺的化合物合成
纳米尺度半导体刻线边缘粗糙度测量与表征方法的研究
极紫外光刻机工件台动力学建模及仿真
光刻机粗精耦合及同步控制算法研究
纳米光刻技术在纳米光子晶体、超材料和生物学中的应用
浸没式光刻中浸液控制单元的液体供给及密封研究
基于微观层流控制技术的微流道内二次流动刻蚀工艺研究
光刻工艺中的曲面胶厚检测
硅的各向异性湿法腐蚀工艺及其在微纳结构中的应用研究
无掩模光刻系统的研究与设计
微电子6寸晶圆接触孔刻蚀工艺开发
0.15微米工艺光刻图形缺陷攻关项目管理
基于纳米压印的平面手性人工材料研究
0.13μm集成电路光刻工艺平台优化和光刻分辨率增强技术的研究
基于Haze缺陷降低的光掩膜清洗技术的新型工艺
砷化镓工艺中深亚微米栅工艺技术研究
亚微米光刻质量的控制技术研究
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