| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-27页 |
| 1．1 多孔硅研究的概况 | 第9-10页 |
| 1．2 多孔硅的制备技术 | 第10-12页 |
| 1．2．1 多孔硅的电化学阳极腐蚀制备法 | 第10-11页 |
| 1．2．2 化学染色腐蚀法 | 第11-12页 |
| 1．2．3 水热腐蚀法 | 第12页 |
| 1．3 多孔硅的形成机理 | 第12-17页 |
| 1．3．1 硅在腐蚀液中的化学反应过程 | 第12-15页 |
| 1．3．2 多孔硅的形成机理 | 第15-17页 |
| 1．4 多孔硅的特性 | 第17-21页 |
| 1．4．1 多孔硅的结构特性 | 第17-20页 |
| 1．4．2 多孔硅的光致发光 | 第20-21页 |
| 1．5 开题思想 | 第21-23页 |
| 第一章参考文献 | 第23-27页 |
| 第二章 N型单晶硅的水热刻蚀与多孔硅的光致发光 | 第27-50页 |
| 2．1 多孔硅的水热制备技术 | 第27-29页 |
| 2．2 N型单晶硅的水热刻蚀条件与多孔形貌 | 第29-38页 |
| 2．2．1 腐蚀液成分对形貌的影响 | 第29-35页 |
| 2．2．2 温度对多孔硅形貌的影响 | 第35-37页 |
| 2．2．3 （100）取向、高掺杂的N型单晶硅片在水热腐蚀中的时间演化 | 第37-38页 |
| 2．3 N型单晶硅刻蚀的铁钝化多孔硅 | 第38-40页 |
| 2．3．1 铁钝化多孔硅的提出 | 第38-40页 |
| 2．3．2 用N型单晶硅水热法制备铁钝化多孔硅 | 第40页 |
| 2．4 N型衬底上水热刻蚀的多孔硅的光致发光 | 第40-42页 |
| 2．5 不同表面钝化多孔硅光致发光谱的时间演化特性 | 第42-46页 |
| 2．6 本章小结 | 第46-49页 |
| 第二章参考文献 | 第49-50页 |
| 第三章 N型单晶硅的水热刻蚀机理 | 第50-63页 |
| 3．1 解释多孔硅形成机理的现有模型 | 第50-52页 |
| 3．1．1 Beale模型 | 第50页 |
| 3．1．2 扩散限制模型 | 第50-51页 |
| 3．1．3 量子力学模型 | 第51-52页 |
| 3．1．4 现有模型的比较 | 第52页 |
| 3．2 N型衬底上水热制备的多孔硅的形貌特征 | 第52-53页 |
| 3．3 N型单晶硅水热刻蚀过程的化学反应 | 第53-57页 |
| 3．3．1 HF+HNO_3体系中的水热反应 | 第54-55页 |
| 3．3．2 HF+Fe（NO_3）_3体系中的水热反应 | 第55-57页 |
| 3．4 N型衬底上多孔硅的形成机理 | 第57-60页 |
| 3．4．1 初孔的形成 | 第58页 |
| 3．4．2 大孔的形成与取向 | 第58-60页 |
| 3．5 本章小结 | 第60-62页 |
| 第三章参考文献 | 第62-63页 |
| 第四章 结论 | 第63-65页 |
| 附录 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
