基于移动掩模技术的微透镜阵列的制作及其面形控制
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| ·微光学和微光学元件 | 第8-9页 |
| ·微光学元件制作技术及发展 | 第9-16页 |
| ·有掩模光刻技术 | 第9-13页 |
| ·无掩模光刻技术 | 第13-16页 |
| ·论文的研究目的及内容 | 第16-18页 |
| 第二章 移动掩模光刻原理 | 第18-29页 |
| ·传统移动掩模光刻 | 第18-21页 |
| ·数字移动掩模光刻 | 第21-23页 |
| ·DMD的基本结构 | 第21-22页 |
| ·基于DMD的数字移动掩模曝光法原理 | 第22-23页 |
| ·工件台的性能要求 | 第23-24页 |
| ·移动掩模的边框效应 | 第24-25页 |
| ·曝光模型 | 第25-26页 |
| ·显影模型 | 第26-29页 |
| ·对一个曝光点显影的建模 | 第26-27页 |
| ·对不同曝光点显影的建模 | 第27-29页 |
| 第三章 柱面微透镜阵列的制作及面形控制 | 第29-49页 |
| ·曝光机的原理 | 第29-32页 |
| ·结构及原理 | 第29-30页 |
| ·光能匀化光路 | 第30-31页 |
| ·投影光刻物镜 | 第31-32页 |
| ·柱面微透镜阵列掩模的设计 | 第32-35页 |
| ·掩模的初步设计 | 第32页 |
| ·模拟曝光量分布优化掩模设计 | 第32-34页 |
| ·掩模的设计结果 | 第34-35页 |
| ·微透镜阵列的实验制作 | 第35-47页 |
| ·基板表面处理 | 第35-36页 |
| ·涂胶 | 第36-37页 |
| ·前烘 | 第37-39页 |
| ·曝光 | 第39-41页 |
| ·后烘 | 第41-42页 |
| ·显影与坚膜 | 第42-45页 |
| ·刻蚀 | 第45-47页 |
| ·实验结果 | 第47-49页 |
| 第四章 柱面微透镜阵列性能测试 | 第49-54页 |
| ·微透镜阵列的均匀性测试 | 第49-50页 |
| ·微透镜车列成像质量的测试(波像差) | 第50-51页 |
| ·微透镜焦距的测量 | 第51-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文情况 | 第59页 |
