首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--一般性问题论文--半导体器件制造工艺及设备论文--光刻、掩膜论文

投影光刻物镜光学元件的离子束精修技术研究

摘要第1-7页
Abstract第7-9页
目录第9-11页
第1章 绪论第11-23页
   ·研究背景及意义第11-13页
   ·研究现状第13-20页
   ·本论文的主要研究内容第20-23页
第2章 立式干涉仪标准镜参考面及抛物面标定精度研究第23-55页
   ·高精度干涉检测原理第23-31页
   ·Fizeau 型相移干涉仪面形检测误差分析第31-36页
   ·双球面法标定立式干涉仪参考面的精度分析第36-43页
   ·计算全息法检测抛物面精度分析第43-53页
   ·本章小结第53-55页
第3章 离子束加工基本性能研究第55-75页
   ·离子束加工原理第55-57页
   ·驻留时间算法与加工路径规划第57-60页
   ·离子束加工稳定性测试第60-67页
   ·离子束面形加工实验第67-73页
   ·本章小结第73-75页
第4章 离子束高精度加工及非球面加工第75-107页
   ·引言第75页
   ·空间频率划分与 PSD 介绍第75-76页
   ·影响低频加工精度的因素分析第76-85页
   ·影响中高频加工精度的因素分析第85-92页
   ·IBF 与超光滑迭代实验第92-98页
   ·离子束加工非球面研究第98-106页
   ·本章小结第106-107页
第5章 结论与展望第107-109页
   ·全文总结第107-108页
   ·研究展望第108-109页
参考文献第109-116页
在学期间学术成果情况第116-117页
指导教师及作者简介第117-118页
致谢第118页

论文共118页,点击 下载论文
上一篇:近红外无创生化分析中快速高信噪比光谱信号检测技术研究
下一篇:LED显示屏灰度控制关键技术的研究