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半导体器件制造工艺及设备
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光刻、掩膜
基于奥林巴斯PROTECH2.5D软件平台的Canon光刻机线宽优化
半导体匀胶系统的研究与优化设计
基于光刻模型的OPC切分研究
光刻机运动平台功率放大控制卡的设计与实现
用于波像差检测的二元光栅掩模标记优化方法研究
利用电子束与深紫外光学曝光技术制备悬空掩膜的工艺研究
基于32nm光刻双重图形技术的研究和工艺实践
45nm光刻板缺陷在硅片上的成像性研究
0.16微米LOGIC SRAM光刻工艺参数的优化研究
深亚微米集成电路制造中电介质自对准接触通孔刻蚀工艺机理及应用
有机铁电材料P（VDF-TrFE）纳米结构制备及性能研究
红外玻璃的模压制造研究
纳米光刻技术及其在三端结器件和纳米光栅偏振器中的应用
基于准分子激光投影扫描系统的大面积ITO及TFT光刻的研究
准分子激光投影光刻光学系统测试及评价
阳离子型纳米压印胶与复合纳米压印模板的研究
光刻工艺中聚酰亚胺层光阻减量和线宽均匀性研究
准分子激光相位掩模制备大晶粒尺寸多晶硅薄膜的研究
浸没式光刻机浸液流动特性及其对物镜影响
投影光刻物镜的光学设计与像质补偿
基于灵敏度解析函数的光刻机波像差检测理论与方法研究
4英寸p型硅微通道板工艺改进及其应用在电子倍增管方面的探索
低能离子束刻蚀中自组织纳米结构形成研究
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