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应用于深亚波长光刻的光学邻近校正技术研究

致谢第1-7页
摘要第7-9页
Abstract第9-12页
目录第12-16页
插图列表第16-19页
表格列表第19-20页
1 绪论第20-42页
   ·信息社会与集成电路第20-21页
   ·集成电路的生产制造第21-22页
   ·光刻技术及其挑战第22-28页
     ·印刷术和石板印刷术的历史第22-24页
     ·应用于集成电路生产的光刻技术第24-25页
     ·光刻技术面临的挑战第25-28页
   ·分辨率增强技术第28-39页
     ·分辨率和焦深第28-32页
     ·移相掩模技术第32-33页
     ·离轴照明技术第33-35页
     ·浸润式光刻第35-37页
     ·多重成像第37-39页
   ·论文的研究内容及创新点第39-40页
   ·论文的组织结构第40-41页
   ·本章小结第41-42页
2 光学邻近校正技术第42-62页
   ·引言第42-43页
   ·光学邻近效应第43-48页
     ·特征尺寸相关的光学邻近效应第43-46页
     ·实际版图图形的光学邻近效应第46-48页
   ·基于规则的光学邻近校正技术第48-52页
     ·对各种光学邻近效应的校正方法第48-50页
     ·规则的匹配第50-52页
   ·基于模型的光学邻近校正技术第52-60页
     ·光刻仿真第54-55页
     ·图形切割第55-56页
     ·边的平移校正第56-59页
     ·层次结构处理第59-60页
   ·本章小结第60-62页
3 一维版图的快速光刻仿真第62-82页
   ·引言第62-63页
   ·一维版图设计规则第63-66页
   ·光刻系统模型第66-69页
     ·光刻成像系统第66-67页
     ·部分相干光成像模型第67页
     ·基于卷积核的快速点光强计算第67-69页
   ·集成电路版图第69-70页
   ·一维版图的快速平面光学仿真第70-75页
     ·一维基元函数第71-72页
     ·查找表的建立第72-73页
     ·大面积版图的光学仿真第73-75页
   ·实验结果第75-79页
     ·查找表建立时间第75-77页
     ·基本图形仿真比较第77-78页
     ·大面积版图仿真比较第78-79页
   ·本章小结第79-82页
4 光学邻近校正的切割第82-102页
   ·引言第82-83页
   ·版图复杂度与掩模板的生产成本第83-88页
   ·传统的切割以及整边校正第88-91页
     ·传统的切割方式第88-89页
     ·整边校正第89-91页
   ·版图中的关键点及其切割策略第91-95页
     ·晶体管第91-93页
     ·连线第93-94页
     ·通孔第94-95页
   ·关键点图形的识别第95-98页
     ·图形布尔运算第95-96页
     ·自身图形分类第96页
     ·图形环境识别第96-97页
     ·完整的基于成品率的切割流程第97-98页
   ·实验结果第98-101页
   ·本章小结第101-102页
5 光学邻近校正中的层次结构处理第102-122页
   ·引言第102-103页
   ·传统的全版图校正方法第103-108页
     ·扁平化的全版图校正方法第103-104页
     ·基于单元的光学邻近校正第104-108页
   ·混合式层次结构处理第108-116页
     ·阵列式模块电路的层次结构处理第108-112页
     ·随机逻辑电路的层次结构处理第112-115页
     ·混合式版图的层次结构处理第115-116页
   ·实验结果第116-119页
   ·本章小结第119-122页
6 总结与展望第122-126页
   ·论文总结第122-123页
   ·工作展望第123-126页
参考文献第126-135页
作者简历及攻读学位期间取得科研成果第135-136页

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