应用于深亚波长光刻的光学邻近校正技术研究
致谢 | 第1-7页 |
摘要 | 第7-9页 |
Abstract | 第9-12页 |
目录 | 第12-16页 |
插图列表 | 第16-19页 |
表格列表 | 第19-20页 |
1 绪论 | 第20-42页 |
·信息社会与集成电路 | 第20-21页 |
·集成电路的生产制造 | 第21-22页 |
·光刻技术及其挑战 | 第22-28页 |
·印刷术和石板印刷术的历史 | 第22-24页 |
·应用于集成电路生产的光刻技术 | 第24-25页 |
·光刻技术面临的挑战 | 第25-28页 |
·分辨率增强技术 | 第28-39页 |
·分辨率和焦深 | 第28-32页 |
·移相掩模技术 | 第32-33页 |
·离轴照明技术 | 第33-35页 |
·浸润式光刻 | 第35-37页 |
·多重成像 | 第37-39页 |
·论文的研究内容及创新点 | 第39-40页 |
·论文的组织结构 | 第40-41页 |
·本章小结 | 第41-42页 |
2 光学邻近校正技术 | 第42-62页 |
·引言 | 第42-43页 |
·光学邻近效应 | 第43-48页 |
·特征尺寸相关的光学邻近效应 | 第43-46页 |
·实际版图图形的光学邻近效应 | 第46-48页 |
·基于规则的光学邻近校正技术 | 第48-52页 |
·对各种光学邻近效应的校正方法 | 第48-50页 |
·规则的匹配 | 第50-52页 |
·基于模型的光学邻近校正技术 | 第52-60页 |
·光刻仿真 | 第54-55页 |
·图形切割 | 第55-56页 |
·边的平移校正 | 第56-59页 |
·层次结构处理 | 第59-60页 |
·本章小结 | 第60-62页 |
3 一维版图的快速光刻仿真 | 第62-82页 |
·引言 | 第62-63页 |
·一维版图设计规则 | 第63-66页 |
·光刻系统模型 | 第66-69页 |
·光刻成像系统 | 第66-67页 |
·部分相干光成像模型 | 第67页 |
·基于卷积核的快速点光强计算 | 第67-69页 |
·集成电路版图 | 第69-70页 |
·一维版图的快速平面光学仿真 | 第70-75页 |
·一维基元函数 | 第71-72页 |
·查找表的建立 | 第72-73页 |
·大面积版图的光学仿真 | 第73-75页 |
·实验结果 | 第75-79页 |
·查找表建立时间 | 第75-77页 |
·基本图形仿真比较 | 第77-78页 |
·大面积版图仿真比较 | 第78-79页 |
·本章小结 | 第79-82页 |
4 光学邻近校正的切割 | 第82-102页 |
·引言 | 第82-83页 |
·版图复杂度与掩模板的生产成本 | 第83-88页 |
·传统的切割以及整边校正 | 第88-91页 |
·传统的切割方式 | 第88-89页 |
·整边校正 | 第89-91页 |
·版图中的关键点及其切割策略 | 第91-95页 |
·晶体管 | 第91-93页 |
·连线 | 第93-94页 |
·通孔 | 第94-95页 |
·关键点图形的识别 | 第95-98页 |
·图形布尔运算 | 第95-96页 |
·自身图形分类 | 第96页 |
·图形环境识别 | 第96-97页 |
·完整的基于成品率的切割流程 | 第97-98页 |
·实验结果 | 第98-101页 |
·本章小结 | 第101-102页 |
5 光学邻近校正中的层次结构处理 | 第102-122页 |
·引言 | 第102-103页 |
·传统的全版图校正方法 | 第103-108页 |
·扁平化的全版图校正方法 | 第103-104页 |
·基于单元的光学邻近校正 | 第104-108页 |
·混合式层次结构处理 | 第108-116页 |
·阵列式模块电路的层次结构处理 | 第108-112页 |
·随机逻辑电路的层次结构处理 | 第112-115页 |
·混合式版图的层次结构处理 | 第115-116页 |
·实验结果 | 第116-119页 |
·本章小结 | 第119-122页 |
6 总结与展望 | 第122-126页 |
·论文总结 | 第122-123页 |
·工作展望 | 第123-126页 |
参考文献 | 第126-135页 |
作者简历及攻读学位期间取得科研成果 | 第135-136页 |