极紫外光刻掩模热变形及其对光刻性能的影响
| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-15页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·光刻技术发展 | 第8-11页 |
| ·极紫外光刻 | 第11-12页 |
| ·掩模热变形 | 第12-14页 |
| ·本文研究内容 | 第14页 |
| ·论文章节安排 | 第14-15页 |
| 第2章 有限元模型 | 第15-25页 |
| ·引言 | 第15页 |
| ·结构 | 第15-16页 |
| ·扫描曝光工艺 | 第16-19页 |
| ·边界条件 | 第19-21页 |
| ·热边界条件 | 第20-21页 |
| ·结构边界条件 | 第21页 |
| ·有限元分析验证 | 第21-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 第3章 掩模热变形 | 第25-54页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·掩模材料选择 | 第25页 |
| ·掩模热变形分析 | 第25-32页 |
| ·基底材料为ULE 玻璃 | 第26-29页 |
| ·基底材料为石英玻璃 | 第29-32页 |
| ·掩模与卡盘间热传导对掩模热变形的影响 | 第32-37页 |
| ·基底材料为ULE 玻璃 | 第32-34页 |
| ·基底材料为石英玻璃 | 第34-37页 |
| ·掩模图形密度对掩模热变形的影响 | 第37-49页 |
| ·不同掩模图形结构下掩模热变形 | 第37-41页 |
| ·基底材料为ULE 玻璃 | 第38-39页 |
| ·基底材料为石英玻璃 | 第39-41页 |
| ·掩模对极紫外光平均吸收率对掩模热变形的影响 | 第41-45页 |
| ·基底材料为ULE 玻璃 | 第41-43页 |
| ·基底材料为石英玻璃 | 第43-45页 |
| ·掩模图形分布对掩模热变形的影响 | 第45-49页 |
| ·基底材料为ULE 玻璃 | 第45-47页 |
| ·基底材料为石英玻璃 | 第47-49页 |
| ·掩模与卡盘间摩擦力对掩模热变形的影响 | 第49-52页 |
| ·基底材料为ULE 玻璃 | 第49-51页 |
| ·基底材料为石英玻璃 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第4章 掩模热变形对光刻性能影响 | 第54-65页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·掩模图形偏移 | 第54-55页 |
| ·极紫外光刻系统参数 | 第55-56页 |
| ·掩模热变形对光刻性能影响 | 第56-64页 |
| ·忽略光学系统像差 | 第56-62页 |
| ·掩模图形偏移对1:1 密集线的影响 | 第57-58页 |
| ·掩模图形偏移对1:2 密集线的影响 | 第58-60页 |
| ·掩模图形偏移对1:4 密集线的影响 | 第60-62页 |
| ·考虑光学系统像差 | 第62-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第5 章结论与展望 | 第65-68页 |
| ·结论 | 第65-66页 |
| ·创新工作 | 第66-67页 |
| ·展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第74-75页 |
| 附录一 ZERNIKE 像差和表达式 | 第75-77页 |
| 附录二 图表说明 | 第77-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 论文答辩说明 | 第82页 |
| 关于论文使用授权的说明 | 第82页 |
