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半导体器件制造工艺及设备
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光刻、掩膜
一种磁悬浮平面电机驱动的微位移精密定位平台研究
MEMS温度传感器中ICP刻蚀技术研究
双工件台换台实现过程中宏动系统的扰动抑制研究
基于叠栅条纹的纳米光刻对准理论与应用研究
矢量光刻成像理论与分辨率增强技术研究
共轴极紫外投影光刻物镜设计研究
高数值孔径光刻中偏振效应及图形保真技术研究
基于表面等离子体激元的超衍射极限光刻基础研究
毛细管放电Z箍缩Xe等离子体EUV光源研究
ArF光源净化与温控技术研究
电化学再生酸性氯化铜蚀刻液及其石墨毡阳极修饰的研究
聚焦离子束刻蚀诱导液滴形成及其迁移
40nm硅栅等离子体刻蚀工艺开发优化
补偿系统三自由度位移测量及误差传递分析研究
简易型微流控芯片的研制及其在临床诊断中的应用
超精密运动平台模型辨识研究
激光辅助放电Sn等离子体13.5nm极紫外辐射研究
刻蚀机腔室结构特性分析与工艺性能参数优化
光刻机掩模台六自由度解耦仿真及宏动轨迹规划
微透镜阵列的约束电化学刻蚀加工技术与系统
假塑性金属纳米粒子流体纳米压印中转移图形形貌控制研究
双工件台宏微快速交接系统研究
双光束激光干涉纳米光刻设备研发
被动补偿系统动态特性研究
基于C-MEMS工艺的微结构间碳悬浮结构制造与测试
光伏硅晶体低反射率表面绒貌及加工工艺研究
滚动压印填充与脱模过程的机理研究
基于表面等离子体的超分辨干涉光刻原理和方法研究
用于纳米结构功能器件的表面等离子体光刻技术研究
三维微纳结构的光刻及其表面形貌测量方法的研究
激光干涉光刻法制备SiO2光子晶体薄膜
旋转式无掩膜光刻系统研究及其应用
方形孔径平面微透镜阵列的光学特性研究及电场辅助制备技术初探
浸没式光刻机浸液温度控制算法研究
基于光刻法制备微环芯腔及其特性的研究
基于DMD的扫描光刻系统图案生成质量优化方案的研究
基于DMD的扫描光刻系统的畸变误差分析与校正技术的研究
大行程纳米压印光刻机的电控系统设计
光刻胶剥离工艺IPA消减方法研究
金属表面等离子体增透特性及其光刻研究
用于MEMS封装的深硅刻蚀工艺研究
纳米压印制作P（VDF-TrFE）铁电微纳图形
ULSI光刻图形线宽调制的优化研究
采用in-film结构刻蚀阻挡层进行双镶嵌刻蚀工艺的研究
数字光刻成像算法及其掩模优化方法研究
激光干涉光刻技术的开发与应用研究
聚酰亚胺光刻工艺研究和改进
光刻工艺重复图形失效问题分析和防范
提高良率的浅槽隔离刻蚀工艺研究
浸润式光刻机工艺缺陷数量的优化
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