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纳米压印制作P(VDF-TrFE)铁电微纳图形

目录第3-5页
摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第一章 绪论第9-19页
    1.1 引言第9页
    1.2 几种微纳结构制作工艺第9-17页
        1.2.1 自组装第9-12页
        1.2.2 电子束光刻第12-13页
        1.2.3 聚焦离子束第13-14页
        1.2.4 X射线光刻和紫外光刻第14-15页
        1.2.5 “蘸笔光刻”第15-17页
    1.3 本论文选题依据和主要内容第17页
    1.4 参考文献第17-19页
第二章 纳米压印和有机铁电材料第19-34页
    2.1 纳米压印技术第19-25页
        2.1.1 纳米压印的发展第19-20页
        2.1.2 纳米压印的种类第20-23页
        2.1.3 纳米压印的重要工艺技术第23-24页
        2.1.4 纳米压印的应用第24-25页
    2.2 有机铁电材料聚偏氟乙烯P(VDF)第25-28页
        2.2.1 聚偏氟乙烯(PVDF)第26页
        2.2.2 PVDF的构象和晶相第26-28页
        2.2.3 PVDF四种晶相的相互转换第28页
    2.3 聚(偏氟乙烯-三氟乙烯)P(VDF-TrFE)第28-30页
        2.3.1 P(VDF-TrFE)的结构和压电铁电性第28-29页
        2.3.2 P(VDF-TrFE)的研究现状和发展前景第29-30页
    2.4 参考文献第30-34页
第三章 P(VDF-TrFE)样品薄膜制备与分析第34-50页
    3.1 制备P(VDF-TrFE)有机铁电薄膜需要的材料和仪器设备第34页
        3.1.1 样品薄膜制备所涉及的材料第34页
        3.1.2 样品薄膜制备需要的实验仪器第34页
    3.2 样品薄膜制备第34-36页
        3.2.1 前躯体样品的制备第34-35页
        3.2.2 衬底的清洗第35页
        3.2.3 有机铁电薄膜的制备第35-36页
    3.3 P(VDF-TrFE)铁电薄膜热处理及结果分析第36-48页
        3.3.1 经过热处理的薄膜表面的SEM图片第38-42页
        3.3.2 经过热处理的薄膜表面的AFM测试结果第42-44页
        3.3.3 经过热处理的薄膜表面的XRD分析第44-48页
    3.4 本章小结第48页
    3.5 参考文献第48-50页
第四章 纳米压印制作P(VDF-TrFE)微纳图形第50-67页
    4.1 一次纳米压印在P(VDF-TrFE)有机铁电薄膜上制备图形第50-57页
        4.1.1 纳米压印前的主要准备工作第50-51页
        4.1.2 一次纳米压印的流程第51页
        4.1.3 一次纳米压印中几个主要的工艺参数第51-55页
        4.1.4 经过工艺优化后的压印图形第55-57页
    4.2 两次纳米压印在P(VDF-TrFE)有机铁电薄膜上制备图形第57-63页
        4.2.1 两次纳米压印前的准备工作第57-58页
        4.2.2 两次纳米压印步骤第58页
        4.2.3 两次纳米压印过程中的主要工艺参数第58-62页
        4.2.4 在优化的工艺条件下,两次压印制作的微纳图形第62-63页
    4.3 两次纳米压印与一次纳米压印的关系第63-64页
    4.5 两次纳米压印面临的挑战第64页
        4.5.1 两次纳米压印对准第64页
        4.5.2 两次纳米压印中图形的形变第64页
    4.6 两次纳米压印的应用第64-65页
    4.7 本章小结第65页
    4.8 参考文献第65-67页
第五章 P(VDF-TrFE)两次压印图形分析第67-75页
    5.1 表面形貌的AFM测试分析第67-69页
    5.2 两次压印后P(VDF-TrFE)薄膜的PFM铁电性能测试第69-73页
        5.2.1 PFM简介第69-70页
        5.2.2 实验样品的PFM测试及结果分析第70-71页
        5.2.3 样品极化第71-73页
    5.3 本章小结第73页
    5.4 参考文献第73-75页
第六章 总结与展望第75-77页
    6.1 总结第75页
    6.2 展望第75-76页
    6.3 参考文献第76-77页
附录:攻读硕士期间发表论文情况第77-78页
致谢第78-79页

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