首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--一般性问题论文--半导体器件制造工艺及设备论文--光刻、掩膜论文

高数值孔径光刻中偏振效应及图形保真技术研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
目录第9-12页
英文符号对照表第12-13页
第1章 绪论第13-25页
    1.1 图形保真技术研究必要性第13-15页
    1.2 研究背景及国内外研究现状第15-22页
        1.2.1 光刻技术简介第15-16页
        1.2.2 偏振效应对图形保真的影响研究现状第16-18页
        1.2.3 图形保真技术研究现状第18-22页
    1.3 本文研究内容及意义第22-24页
        1.3.1 偏振效应及其对图形保真的影响第22-23页
        1.3.2 解析的光源、掩模、NA 协同优化第23页
        1.3.3 光刻机、工艺、掩模多参数协同优化第23-24页
    1.4 本论文的结构安排第24-25页
第2章 多因素分别对图形保真的影响第25-55页
    2.1 光刻成像理论基础第25-31页
        2.1.1 空间像成像第26-29页
        2.1.2 光刻胶成像第29-31页
    2.2 评价图形保真的参数第31-33页
    2.3 偏振效应对图形保真的影响第33-48页
        2.3.1 偏振照明对图形保真的影响第34-42页
        2.3.2 偏振像差对图形保真的影响第42-48页
    2.4 光刻机、工艺、掩模参数分别对图形保真的影响第48-52页
        2.4.1 光刻机参数对图形保真的影响第48-49页
        2.4.2 工艺参数对图形保真的影响第49-52页
        2.4.3 掩模参数对图形保真的影响第52页
    2.5 两个因素共同对图形保真的影响第52-54页
    2.6 本章小结第54-55页
第3章 多参数协同优化方法基础第55-64页
    3.1 综合评价函数构建第55-56页
    3.2 单一参数优化算法第56-60页
    3.3 多参数协同优化方法第60-63页
        3.3.1 协同优化流程第60-62页
        3.3.2 基于导数优化算法第62-63页
        3.3.3 光刻参数优化中导数的计算方法第63页
    3.4 本章小结第63-64页
第4章 解析的光源、掩模、NA 协同优化方法第64-91页
    4.1 解析的光源、掩模、NA 函数第65-72页
        4.1.1 光源函数第66-68页
        4.1.2 掩模函数第68-71页
        4.1.3 NA 函数第71-72页
    4.2 评价函数第72-74页
    4.3 解析的 SMNO 方法第74-80页
        4.3.1 有边界条件约束优化问题转变为无边界条件约束优化问题第75页
        4.3.2 光源函数的导数第75-77页
        4.3.3 掩模函数的导数第77-79页
        4.3.4 NA 函数的导数第79-80页
    4.4 解析的 SMNO 在无偏振像差系统中的应用第80-85页
        4.4.1 优化参数设置第80-82页
        4.4.2 优化结果及讨论第82-85页
    4.5 解析的 SMNO 在有偏振像差系统中的应用第85-90页
        4.5.1 偏振像差对图形保真的影响第85-86页
        4.5.2 SMNO 方法补偿偏振像差的影响第86-90页
    4.6 本章小结第90-91页
第5章 光刻机、工艺、掩模多参数协同优化方法及应用第91-110页
    5.1 理想光刻系统的多参数协同优化第91-104页
        5.1.1 被优化的光刻机、工艺、掩模参数及其范围第92页
        5.1.2 评价函数第92页
        5.1.3 光刻机、工艺、掩模多参数协同优化方法第92-95页
        5.1.4 光刻多参数协同优化软件开发第95-96页
        5.1.5 优化结果及讨论第96-100页
        5.1.6 多参数优化相比像素化 SMO 的优越性第100-103页
        5.1.7 本节小结第103-104页
    5.2 存在偏振像差系统的多参数协同优化第104-106页
    5.3 多参数协同优化对实际光刻机成像性能的改善第106-108页
    5.4 本章小结第108-110页
结论与展望第110-114页
    一、本论文研究工作取得的进展第110-112页
    二、本论文创新点第112-113页
    三、研究工作展望第113-114页
参考文献第114-125页
攻读学位期间发表论文与研究成果清单第125-128页
致谢第128-129页
作者简介第129页

论文共129页,点击 下载论文
上一篇:基于表面等离子体激元的超衍射极限光刻基础研究
下一篇:变压器局部放电源的半定松弛逐次逼近定位方法研究