大行程纳米压印光刻机的电控系统设计
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 引言 | 第11-13页 |
| 1.2 纳米压印光刻技术原理 | 第13-16页 |
| 1.3 国内外现状 | 第16-18页 |
| 1.4 本文主要工作 | 第18-19页 |
| 1.5 章节内容分布 | 第19-20页 |
| 1.6 小结 | 第20-21页 |
| 第二章 宏运动定位平台的电控设计 | 第21-51页 |
| 2.1 概述 | 第21-26页 |
| 2.1.1 宏动平台机构 | 第21-22页 |
| 2.1.2 交流伺服电机 | 第22-23页 |
| 2.1.3 光栅尺 | 第23-24页 |
| 2.1.4 运动控制卡 | 第24-25页 |
| 2.1.5 工控机 | 第25-26页 |
| 2.2 交流伺服电机系统设计 | 第26-31页 |
| 2.2.1 电源、报警及制动回路 | 第27-28页 |
| 2.2.2 速度模式下控制信号分配 | 第28-30页 |
| 2.2.3 参数设定与试运行 | 第30-31页 |
| 2.3 PMAC 系统设计 | 第31-40页 |
| 2.3.1 信号分配 | 第31-33页 |
| 2.3.2 PMAC 参数设定 | 第33-34页 |
| 2.3.3 PMAC 指令 | 第34-35页 |
| 2.3.4 性能优化 | 第35-40页 |
| 2.4 人机交互系统的设计与实现 | 第40-44页 |
| 2.4.1 LabVIEW 介绍 | 第40-42页 |
| 2.4.2 动态链接库调用 | 第42-43页 |
| 2.4.3 界面设计与实现 | 第43-44页 |
| 2.5 实验与测试 | 第44-50页 |
| 2.5.1 激光多普勒干涉仪测量原理 | 第44-46页 |
| 2.5.2 测试及数据分析 | 第46-49页 |
| 2.5.3 宏运动平台精度测试结果 | 第49页 |
| 2.5.4 测试结果汇总 | 第49-50页 |
| 2.6 小结 | 第50-51页 |
| 第三章 微运动定位平台的电控设计 | 第51-74页 |
| 3.1 概述 | 第51-55页 |
| 3.1.1 机构概述 | 第51-52页 |
| 3.1.2 设备概述 | 第52-55页 |
| 3.2 压电陶瓷性能优化 | 第55-62页 |
| 3.2.1 传统的PID 控制与自整定方法 | 第56-57页 |
| 3.2.2 基于开关阶跃响应的PID 参数预整定 | 第57-58页 |
| 3.2.3 Fuzzy-PID 法 | 第58-61页 |
| 3.2.4 压电陶瓷控制实验 | 第61-62页 |
| 3.3 程序与人机界面设计 | 第62-63页 |
| 3.4 系统测试 | 第63-73页 |
| 3.4.1 激光位移传感器测量原理 | 第64-65页 |
| 3.4.2 双激光位移传感器测试方法 | 第65-68页 |
| 3.4.3 测试结果 | 第68-73页 |
| 3.4.4 结论 | 第73页 |
| 3.5 小结 | 第73-74页 |
| 第四章 系统集成与压印实验 | 第74-88页 |
| 4.1 光刻机的其他相关设备 | 第74-77页 |
| 4.1.1 压力反馈装置的设计 | 第74-76页 |
| 4.1.2 紫外线光源系统 | 第76-77页 |
| 4.2 系统集成 | 第77-81页 |
| 4.3 纳米压印控制流程的设计与实现 | 第81-85页 |
| 4.3.1 手动控制方案 | 第81-82页 |
| 4.3.2 半自动控制方案 | 第82-83页 |
| 4.3.3 全自动控制方案 | 第83-85页 |
| 4.4 压印实验 | 第85-86页 |
| 4.5 小结 | 第86-88页 |
| 第五章 全文总结 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-91页 |
| 附录1 | 第91-104页 |
| 附录2 | 第104-106页 |
| 致谢 | 第106-107页 |
| 攻读工学硕士期间已发表或录用的论文 | 第107-109页 |
