| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 引言 | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-13页 |
| 第一节 光刻技术现状 | 第6-10页 |
| 第二节 研究方向及意义 | 第10-13页 |
| 第二章 光刻工艺介绍及现状 | 第13-23页 |
| 第一节 光刻工艺的介绍 | 第13-16页 |
| 第二节 ACT8 Track光刻工艺(匀胶显影)介绍 | 第16-23页 |
| 第三章 匀胶相关工艺对光刻线宽调制影响分析 | 第23-50页 |
| 第一节 衬底预处理对光刻线宽调制影响分析 | 第23-30页 |
| 第二节 匀胶前冷却对光刻线宽调制影响分析 | 第30-34页 |
| 第三节 光刻胶匀胶槽对光刻线宽调制影响分析 | 第34-42页 |
| 第四节 匀胶后烘烤(软烤)对光刻线宽调制影响分析 | 第42-50页 |
| 第四章 显影相关工艺对光刻线宽调制影响分析 | 第50-73页 |
| 第一节 曝光后烘烤对光刻线宽调制影响分析 | 第50-56页 |
| 第二节 显影前冷却对光刻线宽调制影响分析 | 第56-60页 |
| 第三节 显影槽对光刻线宽调制影响分析 | 第60-68页 |
| 第四节 显影后烘烤(硬烤)对光刻线宽调制影响分析 | 第68-73页 |
| 第五章 论文工作在企业生产中的实际应用 | 第73-84页 |
| 第一节 DUV机台烘烤槽工艺时间控制设定和优化 | 第73-78页 |
| 第二节 降低光刻胶成本研究 | 第78-84页 |
| 第六章 结论 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |