浸没式光刻机浸液温度控制算法研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 课题的背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外光刻技术及浸液温控技术发展现状 | 第9-12页 |
| 1.3 温度控制算法发展状况 | 第12-13页 |
| 1.4 课题研究的主要内容和本论文的主要工作 | 第13-14页 |
| 2 浸液温度控制系统原理与装置结构 | 第14-16页 |
| 2.1 光刻机及浸液式光刻机简介 | 第14-15页 |
| 2.2 浸液温度控制需求 | 第15-16页 |
| 2.3 浸液温度控制原理 | 第16页 |
| 3 浸液温控系统控制模型建立 | 第16-25页 |
| 3.1 浸液温度控制系统原理图设计 | 第16-19页 |
| 3.2 浸液温度控制原理框图设计 | 第19-20页 |
| 3.3 两级控制架构 | 第20-22页 |
| 3.4 串级控制架构 | 第22-25页 |
| 4 物理对象传递函数建立 | 第25-43页 |
| 4.1 热交换器 | 第26-34页 |
| 4.2 热交换器控制模型 | 第34-42页 |
| 4.3 流量伺服阀特性分析 | 第42页 |
| 4.4 传感器和管路 | 第42-43页 |
| 4.5 扰动和时滞 | 第43页 |
| 5 控制模型可实现性分析及控制器设计 | 第43-58页 |
| 5.1 控制模型参数量化 | 第44-46页 |
| 5.2 模型可实现性分析 | 第46-47页 |
| 5.3 控制器设计 | 第47-54页 |
| 5.4 控制器分析 | 第54-58页 |
| 6 温度控制算法 | 第58-71页 |
| 6.1 算法设计与仿真 | 第58-66页 |
| 6.2 鲁棒性测试 | 第66-71页 |
| 7 全文总结与展望 | 第71-73页 |
| 7.1 全文总结 | 第71页 |
| 7.2 研究展望 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 附录 1 攻读硕士学位期间发表的学术论文目录 | 第77页 |
