| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第15-33页 |
| 1.1 引言 | 第15-17页 |
| 1.2 三维微纳结构加工方法现状 | 第17-23页 |
| 1.2.1 三维光刻方法及其分类 | 第17-21页 |
| 1.2.2 基于DMD的三维光刻方法的国内外发展 | 第21-23页 |
| 1.3 三维微纳结构测量方法及现状 | 第23-30页 |
| 1.3.1 三维形貌测量方法分类 | 第24-28页 |
| 1.3.2 白光干涉测量发展现状 | 第28-30页 |
| 1.4 本文研究内容与章节安排 | 第30-33页 |
| 第2章 DMD无掩模单步灰度光刻理论 | 第33-43页 |
| 2.1 引言 | 第33-36页 |
| 2.2 DMD灰度调制机理 | 第36-38页 |
| 2.3 DMD单步灰度光刻建模及非线性分析 | 第38-41页 |
| 2.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 第3章 DMD无掩模光刻系统 | 第43-55页 |
| 3.1 引言 | 第43页 |
| 3.2 DMD无掩模光刻系统 | 第43-52页 |
| 3.2.1 均匀照明系统 | 第44-45页 |
| 3.2.2 DMD投影物镜系统 | 第45-48页 |
| 3.2.3 检焦系统 | 第48-50页 |
| 3.2.4 DMD控制系统 | 第50-52页 |
| 3.3 系统集成及测试 | 第52-54页 |
| 3.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第4章 DMD无掩模灰度光刻实验及表面形貌优化 | 第55-79页 |
| 4.1 引言 | 第55页 |
| 4.2 DMD单步无掩模灰度光刻实验研究 | 第55-71页 |
| 4.2.1 灰度光刻中的两种非线性效应 | 第55-61页 |
| 4.2.2 非线性补偿及灰度掩模设计 | 第61-64页 |
| 4.2.3 微光学元件制作 | 第64-69页 |
| 4.2.4 球面微透镜的光学测试 | 第69-71页 |
| 4.3 灰度光刻表面形貌优化及测试 | 第71-77页 |
| 4.4 本章小结 | 第77-79页 |
| 第5章 基于白光干涉空间频域分析的表面形貌测量算法研究 | 第79-93页 |
| 5.1 引言 | 第79-80页 |
| 5.2 白光干涉空间频域分析原理 | 第80-83页 |
| 5.3 2π模糊消除仿真分析 | 第83-86页 |
| 5.4 2π模糊消除实验分析 | 第86-90页 |
| 5.5 本章小结 | 第90-93页 |
| 第6章 白光干涉频域分析中的噪声处理 | 第93-103页 |
| 6.1 引言 | 第93页 |
| 6.2 基于空间调制度分析的白光干涉噪声处理方法 | 第93-96页 |
| 6.3 空间调制度方法去噪仿真 | 第96-98页 |
| 6.4 基于空间调制度方法进行噪声抑制的实验分析 | 第98-100页 |
| 6.5 本章小结 | 第100-103页 |
| 第7章 总结与展望 | 第103-107页 |
| 7.1 全文总结 | 第103-105页 |
| 7.2 研究展望 | 第105-107页 |
| 参考文献 | 第107-119页 |
| 致谢 | 第119-121页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第121-122页 |