| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第14-36页 |
| 1.1 光刻技术研究背景 | 第14-16页 |
| 1.2 传统干涉光刻研究 | 第16-21页 |
| 1.2.1 描述光刻质量的基本物理参数 | 第16-17页 |
| 1.2.2 激光干涉光刻技术 | 第17-19页 |
| 1.2.3 泰伯干涉光刻技术 | 第19-21页 |
| 1.3 超分辨光刻研究进展 | 第21-32页 |
| 1.3.1 衍射极限与倏逝波 | 第21-23页 |
| 1.3.2 超分辨光刻技术 | 第23-25页 |
| 1.3.3 表面等离子光刻 | 第25-32页 |
| 1.4 本文主要研究工作及结构 | 第32-33页 |
| 1.5 本文的章节安排 | 第33-36页 |
| 第2章 表面等离子体研究的基本理论 | 第36-58页 |
| 2.1 前言 | 第36页 |
| 2.2 表面等离子基本理论 | 第36-47页 |
| 2.2.1 表面等离子体的存在条件 | 第36-39页 |
| 2.2.2 表面等离子的电磁特性 | 第39-41页 |
| 2.2.3 表面等离子的色散特性 | 第41-44页 |
| 2.2.4 表面等离子体的激发方式 | 第44-47页 |
| 2.3 倏逝波调控的电磁计算和分析方法 | 第47-55页 |
| 2.3.1 亚波长结构电磁场矢量计算方法 | 第48-50页 |
| 2.3.2 双曲色散超材料分析方法 | 第50-55页 |
| 2.4 本章小结 | 第55-58页 |
| 第3章 基于BPPs的固定周期缩小干涉光刻 | 第58-76页 |
| 3.1 引言 | 第58页 |
| 3.2 基于BPPs的固定周期缩小干涉光刻原理与设计 | 第58-68页 |
| 3.2.1 高频倏逝波带通结构设计 | 第58-61页 |
| 3.2.2 光刻实验结构设计 | 第61页 |
| 3.2.3 场增强技术对光刻效果的影响分析 | 第61-65页 |
| 3.2.4 膜层粗糙度对光刻效果的影响分析 | 第65-68页 |
| 3.3 基于BPPs的固定周期缩小干涉光刻实验 | 第68-73页 |
| 3.3.1 样品制备与曝光实验 | 第68-70页 |
| 3.3.2 光刻实验结果分析 | 第70-73页 |
| 3.4 表面等离子体干涉图形样式理论分析 | 第73-75页 |
| 3.5 本章小结 | 第75-76页 |
| 第4章 基于BPPs的周期可调的干涉光刻研究 | 第76-98页 |
| 4.1 前言 | 第76-77页 |
| 4.2 周期可调的BPPs干涉光刻原理与设计 | 第77-86页 |
| 4.2.1 周期可调BPPs干涉光刻结构设计 | 第77页 |
| 4.2.2 HMM结构的带通性能分析 | 第77-81页 |
| 4.2.3 衍射级次透过分析 | 第81-84页 |
| 4.2.4 背反射层对干涉图案的影响 | 第84-86页 |
| 4.3 周期可调的BPPs干涉光刻结果分析 | 第86-95页 |
| 4.3.1 一维周期可调的BPPs干涉光刻 | 第86-91页 |
| 4.3.2 二维周期可调的BPPs干涉光刻 | 第91-95页 |
| 4.4 本章小结 | 第95-98页 |
| 第5章 深亚波长SP干涉光刻研究 | 第98-110页 |
| 5.1 前言 | 第98-99页 |
| 5.2 深亚波长SP干涉光刻原理及结构设计 | 第99-101页 |
| 5.2.1 衍射波激发分析 | 第99-100页 |
| 5.2.2 金属-介质-金属共振模式 | 第100-101页 |
| 5.3 深亚波长SP干涉光刻规律分析 | 第101-105页 |
| 5.3.1 光源偏振态对SP干涉光刻的影响 | 第101-102页 |
| 5.3.2 介电常数对SP干涉光刻的影响 | 第102-104页 |
| 5.3.3 空气距对SP干涉光刻影响 | 第104-105页 |
| 5.4 深亚波长SP干涉光刻实验 | 第105-107页 |
| 5.5 本章小结 | 第107-110页 |
| 第6章 总结 | 第110-112页 |
| 6.1 论文的主要创新点 | 第110-111页 |
| 6.2 未来的工作展望 | 第111-112页 |
| 参考文献 | 第112-122页 |
| 致谢 | 第122-124页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第124页 |