微透镜阵列的约束电化学刻蚀加工技术与系统
| 上海交通大学硕士学位论文答辩决议书 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第14-32页 |
| 1.1 微纳米技术的发展 | 第14-15页 |
| 1.2 微纳米加工工艺分类与发展 | 第15-22页 |
| 1.2.1 光刻技术 | 第16-17页 |
| 1.2.2 LIGA 技术 | 第17-18页 |
| 1.2.3 扫描探针加工工艺 | 第18-19页 |
| 1.2.4 纳米压印技术 | 第19-21页 |
| 1.2.5 微细电加工技术 | 第21-22页 |
| 1.3 约束电化学刻蚀加工技术 | 第22-25页 |
| 1.3.1 约束刻蚀剂层技术 | 第22-23页 |
| 1.3.2 电化学湿印章技术 | 第23-25页 |
| 1.4 典型微纳加工装备的发展 | 第25-28页 |
| 1.5 选题意义、课题来源与研究内容 | 第28-32页 |
| 1.5.1 选题意义 | 第28-29页 |
| 1.5.2 课题来源 | 第29页 |
| 1.5.3 论文主要研究内容 | 第29-30页 |
| 1.5.4 章节安排 | 第30-32页 |
| 第二章 微纳加工系统的整体设计 | 第32-50页 |
| 2.1 引言 | 第32页 |
| 2.2 系统的整体设计 | 第32-39页 |
| 2.2.1 大理石拱形桥架设计与优化 | 第34-35页 |
| 2.2.2 宏动平台设计 | 第35-37页 |
| 2.2.3 微动平台设计 | 第37-38页 |
| 2.2.4 微力检测模块 | 第38页 |
| 2.2.5 电化学工作站与电解池 | 第38-39页 |
| 2.3 柔性调平机构设计 | 第39-45页 |
| 2.3.1 机构设计与调平原理 | 第39-41页 |
| 2.3.2 琼脂糖凝胶模板的刚度测定 | 第41-42页 |
| 2.3.3 机构建模与有限元分析 | 第42-45页 |
| 2.4 仪器电控系统 | 第45-48页 |
| 2.4.1 数据采集卡的选择 | 第45-47页 |
| 2.4.2 运动控制卡的选择 | 第47-48页 |
| 2.5 本章小结 | 第48-50页 |
| 第三章 系统的高精度定位研究 | 第50-58页 |
| 3.1 引言 | 第50页 |
| 3.2 宏动定位控制策略研究 | 第50-54页 |
| 3.2.1 步进电机控制方法 | 第50-54页 |
| 3.2.2 结果对比 | 第54页 |
| 3.3 微动定位控制策略研究 | 第54-57页 |
| 3.3.1 微动平台的系统辨识 | 第54-56页 |
| 3.3.2 微动平台的逆动力学前馈闭环控制 | 第56-57页 |
| 3.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 第四章 基于 LabVIEW 的加工系统软件设计 | 第58-70页 |
| 4.1 引言 | 第58页 |
| 4.2 软件整体设计 | 第58-60页 |
| 4.2.1 LabVIEW 软件简介 | 第58-59页 |
| 4.2.2 软件的整体架构 | 第59-60页 |
| 4.3 软件功能设计与运行流程 | 第60-67页 |
| 4.3.1 宏动平台运动控制的实现 | 第60-62页 |
| 4.3.2 微动平台运动控制的实现 | 第62页 |
| 4.3.3 高精度逼近与接触检测算法 | 第62-65页 |
| 4.3.4 主动恒微力控制 | 第65-66页 |
| 4.3.5 数据显示与过程状态指示 | 第66-67页 |
| 4.4 本章小结 | 第67-70页 |
| 第五章 微透镜阵列的约束电化学刻蚀实验 | 第70-82页 |
| 5.1 引言 | 第70页 |
| 5.2 微透镜阵列的约束刻蚀剂层加工实验 | 第70-75页 |
| 5.2.1 实验准备 | 第71-73页 |
| 5.2.2 实验加工过程 | 第73页 |
| 5.2.3 实验结果分析 | 第73-75页 |
| 5.3 微透镜阵列的电化学湿印章加工实验 | 第75-79页 |
| 5.3.1 实验准备 | 第75-78页 |
| 5.3.2 实验加工结果 | 第78-79页 |
| 5.4 本章小结 | 第79-82页 |
| 第六章 总结与展望 | 第82-84页 |
| 6.1 本文总结与创新点 | 第82-83页 |
| 6.2 后续工作展望 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-90页 |
| 致谢 | 第90-92页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第92页 |
