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基于表面等离子体激元的超衍射极限光刻基础研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第11-19页
    1.1 论文的研究目的和意义第11-12页
    1.2 国内外研究现状及发展趋势第12-17页
        1.2.1 表面等离子体干涉光刻研究进展第12-14页
        1.2.2 超透镜成像光刻研究进展第14-16页
        1.2.3 基于金属透镜的光束直写光刻研究进展第16-17页
    1.3 论文的研究内容和结构第17-19页
第2章 表面等离子体干涉光刻第19-47页
    2.1 引言第19页
    2.2 基于表面浮雕金属光栅的表面等离子体干涉光刻第19-27页
        2.2.1 表面浮雕金属光栅光刻系统与原理第20-21页
        2.2.2 表面浮雕金属光栅光刻系统的性能第21-23页
        2.2.3 表面浮雕金属光栅光刻系统的参数优化第23-27页
    2.3 基于沟槽-狭缝表面等离子体定向激发器的表面等离子体干涉光刻第27-36页
        2.3.1 沟槽-狭缝表面等离子体定向激发器第28-32页
        2.3.2 沟槽-狭缝表面等离子体定向激发器光刻系统及其性能第32-36页
    2.4 深紫外耦合表面等离子体干涉光刻第36-45页
        2.4.1 深紫外耦合表面等离子体干涉光刻系统与原理第37-38页
        2.4.2 深紫外耦合表面等离子体干涉光刻系统的性能第38-45页
    2.5 本章小结第45-47页
第3章 超透镜成像光刻第47-69页
    3.1 引言第47页
    3.2 金属超透镜成像光刻第47-58页
        3.2.1 金属超透镜成像光刻系统及原理第47-49页
        3.2.2 金属超透镜的像距变动效应第49-54页
        3.2.3 增强金属超透镜成像光刻性能的方法第54-58页
    3.3 金属超透镜-双曲透镜组合成像光刻第58-67页
        3.3.1 金属超透镜-双曲透镜组合成像光刻系统及原理第58-61页
        3.3.2 金属超透镜-双曲透镜组合成像光刻性能第61-66页
        3.3.3 提高光刻图像均匀性的方法第66-67页
    3.4 本章小结第67-69页
第4章 基于金属透镜的光束直写光刻第69-87页
    4.1 引言第69页
    4.2 基于双纳米条金属透镜的光束直写光刻第69-74页
        4.2.1 双纳米条金属透镜的结构与原理第69-70页
        4.2.2 双纳米条金属透镜的特性第70-72页
        4.2.3 双纳米条金属透镜光刻系统及其性能第72-74页
    4.3 基于空间复用啁啾光栅金属透镜的光束直写光刻第74-85页
        4.3.1 空间复用啁啾光栅金属透镜的结构与原理第74-78页
        4.3.2 空间复用啁啾光栅金属透镜的特性第78-83页
        4.3.3 空间复用啁啾光栅金属透镜光刻系统及其性能第83-85页
    4.4 本章小结第85-87页
第5章 总结与展望第87-91页
    5.1 总结第87-89页
    5.2 展望第89-91页
参考文献第91-97页
攻读学位期间发表论文与研究成果清单第97-99页
致谢第99-100页
作者简介第100页

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