| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 论文的研究目的和意义 | 第11-12页 |
| 1.2 国内外研究现状及发展趋势 | 第12-17页 |
| 1.2.1 表面等离子体干涉光刻研究进展 | 第12-14页 |
| 1.2.2 超透镜成像光刻研究进展 | 第14-16页 |
| 1.2.3 基于金属透镜的光束直写光刻研究进展 | 第16-17页 |
| 1.3 论文的研究内容和结构 | 第17-19页 |
| 第2章 表面等离子体干涉光刻 | 第19-47页 |
| 2.1 引言 | 第19页 |
| 2.2 基于表面浮雕金属光栅的表面等离子体干涉光刻 | 第19-27页 |
| 2.2.1 表面浮雕金属光栅光刻系统与原理 | 第20-21页 |
| 2.2.2 表面浮雕金属光栅光刻系统的性能 | 第21-23页 |
| 2.2.3 表面浮雕金属光栅光刻系统的参数优化 | 第23-27页 |
| 2.3 基于沟槽-狭缝表面等离子体定向激发器的表面等离子体干涉光刻 | 第27-36页 |
| 2.3.1 沟槽-狭缝表面等离子体定向激发器 | 第28-32页 |
| 2.3.2 沟槽-狭缝表面等离子体定向激发器光刻系统及其性能 | 第32-36页 |
| 2.4 深紫外耦合表面等离子体干涉光刻 | 第36-45页 |
| 2.4.1 深紫外耦合表面等离子体干涉光刻系统与原理 | 第37-38页 |
| 2.4.2 深紫外耦合表面等离子体干涉光刻系统的性能 | 第38-45页 |
| 2.5 本章小结 | 第45-47页 |
| 第3章 超透镜成像光刻 | 第47-69页 |
| 3.1 引言 | 第47页 |
| 3.2 金属超透镜成像光刻 | 第47-58页 |
| 3.2.1 金属超透镜成像光刻系统及原理 | 第47-49页 |
| 3.2.2 金属超透镜的像距变动效应 | 第49-54页 |
| 3.2.3 增强金属超透镜成像光刻性能的方法 | 第54-58页 |
| 3.3 金属超透镜-双曲透镜组合成像光刻 | 第58-67页 |
| 3.3.1 金属超透镜-双曲透镜组合成像光刻系统及原理 | 第58-61页 |
| 3.3.2 金属超透镜-双曲透镜组合成像光刻性能 | 第61-66页 |
| 3.3.3 提高光刻图像均匀性的方法 | 第66-67页 |
| 3.4 本章小结 | 第67-69页 |
| 第4章 基于金属透镜的光束直写光刻 | 第69-87页 |
| 4.1 引言 | 第69页 |
| 4.2 基于双纳米条金属透镜的光束直写光刻 | 第69-74页 |
| 4.2.1 双纳米条金属透镜的结构与原理 | 第69-70页 |
| 4.2.2 双纳米条金属透镜的特性 | 第70-72页 |
| 4.2.3 双纳米条金属透镜光刻系统及其性能 | 第72-74页 |
| 4.3 基于空间复用啁啾光栅金属透镜的光束直写光刻 | 第74-85页 |
| 4.3.1 空间复用啁啾光栅金属透镜的结构与原理 | 第74-78页 |
| 4.3.2 空间复用啁啾光栅金属透镜的特性 | 第78-83页 |
| 4.3.3 空间复用啁啾光栅金属透镜光刻系统及其性能 | 第83-85页 |
| 4.4 本章小结 | 第85-87页 |
| 第5章 总结与展望 | 第87-91页 |
| 5.1 总结 | 第87-89页 |
| 5.2 展望 | 第89-91页 |
| 参考文献 | 第91-97页 |
| 攻读学位期间发表论文与研究成果清单 | 第97-99页 |
| 致谢 | 第99-100页 |
| 作者简介 | 第100页 |
