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金属表面等离子体增透特性及其光刻研究

摘要第3-5页
Abstract第5-7页
目录第8-10页
第一章 表面等离子体基本概念及其应用第10-28页
    1.1 引言第10-11页
    1.2 表面等离子体概述第11-17页
    1.3 表面等离子体研究热点和应用第17-26页
        1.3.1 亚波长金属周期结构的超透射现象第17-18页
        1.3.2 纳米集成光子元器件第18-19页
        1.3.3 纳米光刻蚀第19-26页
    1.4 课题的意义以及本论文的整体结构第26-28页
第二章 时域有限差分(FDTD)方法概述第28-45页
    2.1 引言第28页
    2.2 数值计算方法第28-43页
        2.2.1 严格耦合波分析法第28-33页
        2.2.2 时域有限差分法第33-38页
        2.2.3 特征值展开法第38-41页
        2.2.4 转移矩阵法第41-43页
    2.3 等效折射率和介电常数近似第43-44页
        2.3.1 等效折射率方程第43-44页
    2.4 本章小结第44-45页
第三章 三角形光栅结构激发表面等离子体激元的特性第45-54页
    3.1 两种激发方式第45-47页
    3.2 理论模型及计算第47-48页
    3.3 各种参数对于透射率的影响第48-52页
    3.4 本章小结第52-54页
第四章 光栅结构激发表面等离子体对光刻分辨率的影响第54-71页
    4.1 引言第54页
    4.2 三角形纳米光栅的透射特性研究第54-63页
        4.2.1 建模第54-55页
        4.2.2 透射率的模拟计算第55-57页
        4.2.3 结果讨论第57-63页
    4.3 非周期性光栅结构的模拟第63-65页
    4.4 光栅光刻实验第65-70页
        4.4.1 光刻的技术路线第65-66页
        4.4.2 实验结果第66页
        4.4.3 分析与讨论第66-70页
    4.5 本章小结第70-71页
第五章 结论与展望第71-73页
参考文献第73-77页
致谢第77-78页
攻读硕士学位期间发表或收录的论文第78-81页
上海交通大学硕士学位论文答辩决议书第81页

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