摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-7页 |
目录 | 第8-10页 |
第一章 表面等离子体基本概念及其应用 | 第10-28页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 表面等离子体概述 | 第11-17页 |
1.3 表面等离子体研究热点和应用 | 第17-26页 |
1.3.1 亚波长金属周期结构的超透射现象 | 第17-18页 |
1.3.2 纳米集成光子元器件 | 第18-19页 |
1.3.3 纳米光刻蚀 | 第19-26页 |
1.4 课题的意义以及本论文的整体结构 | 第26-28页 |
第二章 时域有限差分(FDTD)方法概述 | 第28-45页 |
2.1 引言 | 第28页 |
2.2 数值计算方法 | 第28-43页 |
2.2.1 严格耦合波分析法 | 第28-33页 |
2.2.2 时域有限差分法 | 第33-38页 |
2.2.3 特征值展开法 | 第38-41页 |
2.2.4 转移矩阵法 | 第41-43页 |
2.3 等效折射率和介电常数近似 | 第43-44页 |
2.3.1 等效折射率方程 | 第43-44页 |
2.4 本章小结 | 第44-45页 |
第三章 三角形光栅结构激发表面等离子体激元的特性 | 第45-54页 |
3.1 两种激发方式 | 第45-47页 |
3.2 理论模型及计算 | 第47-48页 |
3.3 各种参数对于透射率的影响 | 第48-52页 |
3.4 本章小结 | 第52-54页 |
第四章 光栅结构激发表面等离子体对光刻分辨率的影响 | 第54-71页 |
4.1 引言 | 第54页 |
4.2 三角形纳米光栅的透射特性研究 | 第54-63页 |
4.2.1 建模 | 第54-55页 |
4.2.2 透射率的模拟计算 | 第55-57页 |
4.2.3 结果讨论 | 第57-63页 |
4.3 非周期性光栅结构的模拟 | 第63-65页 |
4.4 光栅光刻实验 | 第65-70页 |
4.4.1 光刻的技术路线 | 第65-66页 |
4.4.2 实验结果 | 第66页 |
4.4.3 分析与讨论 | 第66-70页 |
4.5 本章小结 | 第70-71页 |
第五章 结论与展望 | 第71-73页 |
参考文献 | 第73-77页 |
致谢 | 第77-78页 |
攻读硕士学位期间发表或收录的论文 | 第78-81页 |
上海交通大学硕士学位论文答辩决议书 | 第81页 |