旋转式无掩膜光刻系统研究及其应用
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 课题的研究背景 | 第10-13页 |
| 1.1.1 基于紫外固化的滚动压印技术 | 第10-12页 |
| 1.1.2 基于DMD的无掩膜光刻技术 | 第12-13页 |
| 1.2 研究现状 | 第13-16页 |
| 1.2.1 辊压模具制备方法的研究现状 | 第13-15页 |
| 1.2.2 基于柱面热回流的研究现状 | 第15-16页 |
| 1.3 本文的研究内容 | 第16-17页 |
| 1.4 论文结构 | 第17-18页 |
| 第2章 旋转式紫外曝光系统设计 | 第18-34页 |
| 2.1 旋转式紫外曝光系统模块概念设计 | 第18-19页 |
| 2.2 旋转式紫外曝光系统介绍 | 第19-26页 |
| 2.2.1 步进-旋转曝光平台系统介绍 | 第19-21页 |
| 2.2.2 无掩膜曝光-投影系统介绍 | 第21-25页 |
| 2.2.3 线性-提拉装置系统介绍 | 第25-26页 |
| 2.3 旋转式紫外曝光平台结构设计 | 第26-30页 |
| 2.3.1 步进-旋转机构 | 第27-29页 |
| 2.3.2 往复直线进给机构 | 第29-30页 |
| 2.4 控制系统软硬件设计 | 第30-32页 |
| 2.4.1 系统硬件设计 | 第31页 |
| 2.4.2 系统软件设计 | 第31-32页 |
| 2.5 本章小结 | 第32-34页 |
| 第3章 系统校调与测试验证 | 第34-44页 |
| 3.1 系统结构装配及关键部位精度校核 | 第34-38页 |
| 3.1.1 步进-旋转机构旋转精度校核 | 第34-35页 |
| 3.1.2 曝光图形对准精度校核 | 第35-36页 |
| 3.1.3 曝光焦平面位置精度校核 | 第36-38页 |
| 3.2 光滑表面的微条纹阵列的制作 | 第38-41页 |
| 3.2.1 制备工艺 | 第38-40页 |
| 3.2.2 表面形貌评估 | 第40-41页 |
| 3.3 其他微结构阵列的制作 | 第41-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 基于动态掩膜与平台联动下的微结构制作 | 第44-54页 |
| 4.1 动态掩膜的优势 | 第44-45页 |
| 4.2 基于多帧图形曝光的微结构制作 | 第45-47页 |
| 4.2.1 掩膜板准备阶段 | 第45-46页 |
| 4.2.2 运动参数设置 | 第46-47页 |
| 4.2.3 实验结果 | 第47页 |
| 4.3 基于平台联动的螺旋线微结构制作 | 第47-50页 |
| 4.3.1 掩膜板设计 | 第47-48页 |
| 4.3.2 运动参数设计 | 第48-49页 |
| 4.3.3 实验结果 | 第49-50页 |
| 4.4 基于动态掩膜的变截面螺旋线微结构制作 | 第50-52页 |
| 4.4.1 掩膜板集合的设计 | 第50页 |
| 4.4.2 运动参数设计 | 第50-51页 |
| 4.4.3 实验结果 | 第51-52页 |
| 4.5 本章小结 | 第52-54页 |
| 第5章 基于柱面的热回流过程分析 | 第54-72页 |
| 5.1 光刻胶热熔回流理论介绍 | 第54-55页 |
| 5.2 数值计算模型建立 | 第55-57页 |
| 5.2.1 相关软件介绍 | 第55-56页 |
| 5.2.2 几何模型建立 | 第56页 |
| 5.2.3 网格划分 | 第56-57页 |
| 5.3 数值仿真模型设置及分析 | 第57-64页 |
| 5.3.1 数学模型介绍 | 第57-59页 |
| 5.3.2 数值仿真过程设置 | 第59-63页 |
| 5.3.3 数值求解过程设置 | 第63-64页 |
| 5.3.4 仿真数据后处理 | 第64页 |
| 5.4 光刻胶热熔回流特征分析 | 第64-67页 |
| 5.4.1 热回流阶段定义 | 第64-65页 |
| 5.4.2 回流过程中的影响因素 | 第65-67页 |
| 5.5 数值仿真数据与实验数据的对比 | 第67-70页 |
| 5.6 本章小结 | 第70-72页 |
| 第6章 总结与展望 | 第72-76页 |
| 6.1 总结 | 第72页 |
| 6.2 工作中存在的问题 | 第72-74页 |
| 6.3 展望 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 致谢 | 第80-82页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第82页 |
