| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-42页 |
| 1.1 引言 | 第13-15页 |
| 1.2 光刻技术的发展概述 | 第15-20页 |
| 1.3 小结 | 第20页 |
| 1.4 光刻对准技术发展现状 | 第20-40页 |
| 1.4.1 基于光强信号扫描搜索对准点的对准方法 | 第21-30页 |
| 1.4.2 基于图像处理的直接探测对准偏差方法 | 第30-37页 |
| 1.4.2.1 十字叉方框型视频图像对准方案 | 第30-32页 |
| 1.4.2.2 基于叠栅条纹图像对准 | 第32-37页 |
| 1.4.3 国内光刻对准技术发展现状 | 第37-39页 |
| 1.4.4 对准方法总结与分析 | 第39-40页 |
| 1.5 论文研究内容与结构安排 | 第40-42页 |
| 第二章 基于叠栅条纹的光刻对准方法 | 第42-48页 |
| 2.1 引言 | 第42页 |
| 2.2 基本原理 | 第42-47页 |
| 2.2.1 对准标记 | 第42-43页 |
| 2.2.2 粗对准方案 | 第43-44页 |
| 2.2.3 精对准方案 | 第44-47页 |
| 2.2.3.1 叠栅条纹形成模型 | 第44-45页 |
| 2.2.3.2 精对准标记与对准模型 | 第45-47页 |
| 2.3 本章小结 | 第47-48页 |
| 第三章 叠栅条纹倾斜对对准精度的影响分析 | 第48-61页 |
| 3.1 引言 | 第48页 |
| 3.2 光栅相位分析 | 第48-50页 |
| 3.2.1 矩形光栅相位分析 | 第48-49页 |
| 3.2.2 余弦光栅几何结构与相位分析 | 第49-50页 |
| 3.3 叠栅条纹几何结构与相位分析 | 第50-51页 |
| 3.4 不同情况下倾斜叠栅条纹对准精度的影响分析 | 第51-59页 |
| 3.4.1 第一种情况 θ_1≠θ_2≠0° | 第51-54页 |
| 3.4.2 第二种情况 θ_1=θ_2≠0° | 第54-56页 |
| 3.4.3 第三种情况 θ_1=0°且 θ_2≠0° | 第56-58页 |
| 3.4.4 第四种情况 θ_1=θ_2=0° | 第58-59页 |
| 3.5 本章小结 | 第59-61页 |
| 第四章 叠栅条纹倾斜矫正方法研究 | 第61-73页 |
| 4.1 引言 | 第61页 |
| 4.2 掩模对准标记成像分析 | 第61-62页 |
| 4.3 叠栅条纹倾斜与对准标记之间的关系 | 第62-66页 |
| 4.3.1 叠栅条纹倾斜 | 第62-65页 |
| 4.3.2 叠栅条纹对准分析 | 第65-66页 |
| 4.3.2.1 零角位移对准 | 第65-66页 |
| 4.3.2.2 存在角位移对准 | 第66页 |
| 4.4 叠栅条纹频域分析 | 第66-67页 |
| 4.5 矫正方法与仿真研究 | 第67-72页 |
| 4.5.1 基于相位斜率的倾斜条纹矫正方法 | 第67-68页 |
| 4.5.2 基于条纹空间频率分解的矫正方法 | 第68-70页 |
| 4.5.3 仿真研究 | 第70-72页 |
| 4.6 本章小结 | 第72-73页 |
| 第五章 对准偏差提取算法研究 | 第73-96页 |
| 5.1 引言 | 第73页 |
| 5.2 粗对准图像处理 | 第73-74页 |
| 5.3 精对准图像处理 | 第74-95页 |
| 5.3.1 基于相位谱的对准偏差快速提取算法 | 第74-95页 |
| 5.3.1.1 基本原理 | 第74-77页 |
| 5.3.1.2 加窗对信号截断的影响分析 | 第77-81页 |
| 5.3.1.3 仿真分析与研究 | 第81-95页 |
| 5.4 本章小结 | 第95-96页 |
| 第六章 泰伯效应在光刻对准的应用研究 | 第96-105页 |
| 6.1 引言 | 第96页 |
| 6.2 泰伯效应基本原理 | 第96-97页 |
| 6.3 泰伯效应在接近式光刻对准中的应用 | 第97-104页 |
| 6.3.1 掩模-硅片间距对叠栅条纹对比度的影响 | 第98-100页 |
| 6.3.2 实验研究 | 第100-103页 |
| 6.3.3 讨论与分析 | 第103-104页 |
| 6.4 本章小结 | 第104-105页 |
| 第七章 实验研究与误差分析 | 第105-123页 |
| 7.1 引言 | 第105页 |
| 7.2 实验 | 第105-120页 |
| 7.2.1 实验装置 | 第105-107页 |
| 7.2.2 实验器材与参数 | 第107-110页 |
| 7.2.3 对准实验 | 第110-120页 |
| 7.2.3.1 对准标记倾斜消除 | 第110-112页 |
| 7.2.3.2 粗对准实验 | 第112-113页 |
| 7.2.3.3 精对准实验 | 第113-120页 |
| 7.3 误差分析 | 第120-122页 |
| 7.4 本章小结 | 第122-123页 |
| 第八章 基于拼接光栅全局叠栅条纹的投影光刻对准方法研究 | 第123-131页 |
| 8.1 引言 | 第123页 |
| 8.2 全局叠栅相位对准方法 | 第123-129页 |
| 8.2.1 物理模型 | 第124-126页 |
| 8.2.2 对准标记设计方案 | 第126-127页 |
| 8.2.3 x-y-α 对准测量模型 | 第127-129页 |
| 8.2.4 相位分析方法 | 第129页 |
| 8.3 精度估计与可行性分析 | 第129-130页 |
| 8.4 本章小结 | 第130-131页 |
| 第九章 总结与展望 | 第131-133页 |
| 9.1 总结 | 第131页 |
| 9.2 创新点 | 第131-132页 |
| 9.3 展望 | 第132-133页 |
| 致谢 | 第133-136页 |
| 参考文献 | 第136-146页 |
| 攻读博士学位期间取得的成果 | 第146-148页 |