| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 本课题的研究目的和意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外相关领域的研究现状 | 第10-16页 |
| 1.3 课题主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第2章 补偿系统建模与优化设计 | 第17-30页 |
| 2.1 引言 | 第17页 |
| 2.2 平衡质量块系统特性分析 | 第17-21页 |
| 2.2.1 平衡质量系统的特点 | 第17-20页 |
| 2.2.2 平衡质量块运动特性 | 第20-21页 |
| 2.3 被动补偿系统设计 | 第21-29页 |
| 2.3.1 被动补偿系统数学模型建立 | 第21-25页 |
| 2.3.2 被动补偿系统理论特性分析及参数优化 | 第25-29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 补偿系统动态特性分析 | 第30-43页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 补偿系统的理论特性验证 | 第30-33页 |
| 3.3 步进和扫描运动过程加速曲线设计 | 第33-37页 |
| 3.3.1 扫描过程五阶 S 控制曲线设计 | 第33-35页 |
| 3.3.2 步进过程五阶 S 曲线设计 | 第35-37页 |
| 3.4 硅片台扫描过程轨迹规划 | 第37-42页 |
| 3.4.1 硅片台运动轨迹规划 | 第37-38页 |
| 3.4.2 硅片台测量位工作轨迹 | 第38-40页 |
| 3.4.3 硅片台曝光位工作轨迹 | 第40-42页 |
| 3.5 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 补偿系统动态特性仿真 | 第43-54页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 轨迹规划的仿真验证 | 第43-47页 |
| 4.2.1 扫描运动的仿真 | 第43-46页 |
| 4.2.2 步进运动的仿真 | 第46-47页 |
| 4.3 被动补偿系统特性仿真验证 | 第47-53页 |
| 4.3.1 硅片台在测量位运动时被动补偿系统特性仿真 | 第47-50页 |
| 4.3.2 硅片台在曝光位运动时被动补偿系统特性仿真 | 第50-53页 |
| 4.3.3 硅片台总行程范围内被动补偿系统特性仿真 | 第53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第5章 补偿系统动态特性实验 | 第54-67页 |
| 5.1 引言 | 第54页 |
| 5.2 补偿系统单体性能测试 | 第54-61页 |
| 5.2.1 平面弹簧力学测试 | 第54-57页 |
| 5.2.2 电磁阻尼器力学测试 | 第57-61页 |
| 5.3 被动补偿系统特性实验 | 第61-64页 |
| 5.3.1 补偿系统实验平台搭建 | 第61-62页 |
| 5.3.2 补偿系统 X 向测试 | 第62-63页 |
| 5.3.3 补偿系统 Y 向测试 | 第63-64页 |
| 5.4 实验结果分析 | 第64-66页 |
| 5.5 小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
