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矢量光刻成像理论与分辨率增强技术研究

摘要第6-8页
Abstract第8-9页
第1章 绪论第13-27页
    1.1 本论文研究必要性第13-15页
    1.2 本论文研究背景与国内外研究现状分析第15-23页
        1.2.1 光刻成像理论与模型研究现状分析第15-18页
        1.2.2 用于投影物镜像差检测的成像传感技术研究现状分析第18-20页
        1.2.3 分辨率增强技术研究现状分析第20-22页
        1.2.4 现存问题总结第22-23页
    1.3 本论文研究意义、目标与内容第23-27页
        1.3.1 本论文研究意义和作用第23-24页
        1.3.2 本论文研究目标第24页
        1.3.3 本论文研究内容安排第24-27页
第2章 矢量光刻成像理论第27-67页
    2.1 成像理论基础第27-35页
        2.1.1 部分相干光源的描述第27-30页
        2.1.2 掩模衍射近场的描述第30-32页
        2.1.3 投影物镜的波像差与偏振像差及表征第32-35页
    2.2 严格矢量光刻成像理论第35-53页
        2.2.1 局部坐标系下的严格矢量光刻成像理论第35-46页
        2.2.2 全局坐标系下的严格矢量光刻成像理论第46-49页
        2.2.3 两种坐标系下的矢量光刻成像模型对比第49-53页
    2.3 严格矢量光刻成像模型正确性验证第53-66页
        2.3.1 非远心投影物镜成像情况第53-62页
        2.3.2 理想双远心投影物镜成像情况第62-66页
    2.4 本章小结第66-67页
第3章 主要因素对光刻矢量成像性能的影响分析第67-93页
    3.1 投影物镜像差对光刻成像性能的影响第67-81页
        3.1.1 投影物镜波像差对光刻成像性能的影响第67-72页
        3.1.2 投影物镜偏振像差对光刻成像性能的影响第72-81页
    3.2 投影物镜数值孔径误差对光刻成像性能的影响第81-89页
        3.2.1 理论分析第81-87页
        3.2.2 仿真验证第87-89页
    3.3 有效光源部分相干因子误差对光刻成像性能的影响第89-91页
        3.3.1 理论分析第89-90页
        3.3.2 仿真验证第90-91页
    3.4 本章小结第91-93页
第4章 矢量成像传感技术研究第93-116页
    4.1 提取投影物镜波像差的矢量成像传感技术第94-101页
        4.1.1 波像差提取理论第94-97页
        4.1.2 波像差提取精度分析第97-101页
    4.2 提取投影物镜偏振像差的矢量成像传感技术第101-115页
        4.2.1 偏振像差提取理论第101-110页
        4.2.2 偏振像差提取精度分析第110-115页
    4.3 本章小结第115-116页
第5章 矢量分辨率增强技术研究第116-129页
    5.1 矢量成像 OPC 技术第116-123页
        5.1.1 基于矢量光刻成像模型的 OPC 技术原理第116-119页
        5.1.2 优化结果与讨论第119-123页
    5.2 矢量成像 SMO 技术第123-128页
        5.2.1 基于矢量光刻成像模型的 SMO 技术原理第123-125页
        5.2.2 优化结果与讨论第125-128页
    5.3 本章小结第128-129页
结论与展望第129-133页
参考文献第133-143页
附录一第143-145页
附录二第145-147页
攻读学位期间发表论文与研究成果清单第147-150页
致谢第150-151页
作者简介第151页

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