| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 注释表 | 第13-14页 |
| 缩略词 | 第14-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-28页 |
| 1.1 研究背景 | 第15-19页 |
| 1.1.1 分辨率增强技术 | 第17-18页 |
| 1.1.2 逆光刻技术 | 第18页 |
| 1.1.3 光刻成本问题 | 第18-19页 |
| 1.2 无掩模光刻技术 | 第19-22页 |
| 1.2.1 电子束光刻技术 | 第19-20页 |
| 1.2.2 激光干涉光刻技术 | 第20-21页 |
| 1.2.3 波带片阵列光刻光刻技术 | 第21-22页 |
| 1.3 DMD数字掩模光刻技术的研究现状 | 第22-25页 |
| 1.3.1 基于DMD的数字光刻技术特点 | 第22-23页 |
| 1.3.2 数字光刻成像算法的研究现状 | 第23-25页 |
| 1.3.3 DMD数字光刻成像优化的研究现状 | 第25页 |
| 1.4 研究目的、内容 | 第25-28页 |
| 1.4.1 研究目的 | 第25-26页 |
| 1.4.2 本文的主要研究内容及章节安排 | 第26-28页 |
| 第二章 光刻成像理论及DMD成像原理 | 第28-36页 |
| 2.1 引言 | 第28页 |
| 2.2 部分相干成像算法 | 第28-31页 |
| 2.2.1 Hopkins成像算法 | 第28-30页 |
| 2.2.2 Abbe成像算法 | 第30-31页 |
| 2.3 DMD微镜 | 第31-35页 |
| 2.3.1 DMD微镜结构 | 第31-32页 |
| 2.3.2 DMD工作原理 | 第32-33页 |
| 2.3.3 二元脉宽调制技术 | 第33-34页 |
| 2.3.4 DMD衍射效率 | 第34-35页 |
| 2.3.5 DMD特点及特性 | 第35页 |
| 2.4. 小结 | 第35-36页 |
| 第三章 基于DMD数字光刻快速部分相干成像算法 | 第36-50页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 问题的提出 | 第36-37页 |
| 3.3 DMD数字光刻快速部分相干成像算法 | 第37-41页 |
| 3.3.1 DMD微镜的二维光栅结构 | 第37-39页 |
| 3.3.2 空间像的计算 | 第39-41页 |
| 3.4 加速计算方法 | 第41-44页 |
| 3.4.1 加速方法 1 | 第41-42页 |
| 3.4.2 加速方法 2 | 第42-44页 |
| 3.5 计算机仿真结果及分析 | 第44-49页 |
| 3.5.1 Hopkins算法与P_算法的比较 | 第44-46页 |
| 3.5.2 P_算法与P_SVD算法比较 | 第46-47页 |
| 3.5.3 P_算法与P_RS算法比较 | 第47-49页 |
| 3.6 本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 基于像素的DMD数字光刻成像算法 | 第50-58页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 DMD像素成像 | 第50-54页 |
| 4.2.1 光刻成像系统转换效应 | 第52-53页 |
| 4.2.2 像素级成像算法 | 第53-54页 |
| 4.3 计算机仿真与分析 | 第54-57页 |
| 4.3.1 算法性能对比实验及分析一 | 第55-56页 |
| 4.3.2 算法性能对比实验及分析二 | 第56-57页 |
| 4.4 结论 | 第57-58页 |
| 第五章 基于逆光刻技术优化DMD数字掩模 | 第58-73页 |
| 5.1 引言 | 第58页 |
| 5.2 数字掩模优化的必要性和可行性 | 第58-63页 |
| 5.2.1 数字掩模优化的必要性 | 第58-60页 |
| 5.2.2 微镜灰阶对数字掩模成像的影响 | 第60-62页 |
| 5.2.3 灰度图形的精细采样二元表示形式法 | 第62-63页 |
| 5.3 逆光刻方法设计理论 | 第63-69页 |
| 5.3.1 前向成像计算 | 第64页 |
| 5.3.2 光刻胶模型 | 第64-65页 |
| 5.3.3 梯度下降法优化设计二元掩模 | 第65-67页 |
| 5.3.4 边界像素和关键像素 | 第67-69页 |
| 5.4 计算机仿真与分析 | 第69-72页 |
| 5.4.1 矩形孔的仿真 | 第69-71页 |
| 5.4.2 T型图的仿真 | 第71-72页 |
| 5.5.本章小结 | 第72-73页 |
| 第六章 基于共轭梯度算法构造高质量的连续面型三维微结构 | 第73-89页 |
| 6.1 引言 | 第73页 |
| 6.2 基于数字灰阶光刻构造制作三维微结构 | 第73-76页 |
| 6.2.1 曝光阈值模型 | 第74-75页 |
| 6.2.2 曝光量的计算 | 第75页 |
| 6.2.3 时间脉宽调制编码方法 | 第75-76页 |
| 6.3 问题的提出 | 第76-77页 |
| 6.4 优化模型的建立 | 第77-82页 |
| 6.4.1 优化设计三维微结构函数z | 第77-78页 |
| 6.4.2 优化设计曝光量E | 第78-80页 |
| 6.4.3 DMD微镜像素与光刻胶平面像素的关系表 | 第80-82页 |
| 6.5 共轭梯度法优化DMD微镜曝光时间 | 第82-85页 |
| 6.5.1 子空间共轭梯度法 | 第83-84页 |
| 6.5.2 算法流程 | 第84-85页 |
| 6.6 实验与分析 | 第85-87页 |
| 6.7 本章小结 | 第87-89页 |
| 第七章 总结与展望 | 第89-92页 |
| 7.1 总结 | 第89-90页 |
| 7.2 展望 | 第90-92页 |
| 参考文献 | 第92-103页 |
| 致谢 | 第103-104页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第104页 |