| 摘要 | 第4-7页 |
| abstract | 第7-10页 |
| 第1章 绪论 | 第17-29页 |
| 1.1 选题背景及意义 | 第17-18页 |
| 1.2 SP的概念与历史背景 | 第18-19页 |
| 1.3 SP超分辨光刻技术研究进展与发展趋势 | 第19-26页 |
| 1.3.1 SP干涉光刻 | 第19-20页 |
| 1.3.2 SP成像光刻 | 第20-24页 |
| 1.3.3 SP直写光刻 | 第24-26页 |
| 1.4 本研究领域待解决的科学与技术问题 | 第26页 |
| 1.5 本论文研究思路与内容 | 第26-27页 |
| 1.6 论文组织架构 | 第27-29页 |
| 第2章 SP光刻的理论基础与数值模拟方法 | 第29-45页 |
| 2.1 光刻概述 | 第29-32页 |
| 2.1.1 光刻光源 | 第29-30页 |
| 2.1.2 光刻胶 | 第30-31页 |
| 2.1.3 光刻工艺 | 第31-32页 |
| 2.2 SP的基本理论 | 第32-41页 |
| 2.2.1 倏逝波 | 第33-35页 |
| 2.2.2 SP存在的条件 | 第35-37页 |
| 2.2.3 SP的特征参数 | 第37-38页 |
| 2.2.4 SP的激发方式 | 第38-41页 |
| 2.3 SP的数值模拟方法 | 第41-43页 |
| 2.3.1 严格耦合波分析法 | 第41页 |
| 2.3.2 有限元分析方法 | 第41-42页 |
| 2.3.3 时域有限差分法 | 第42-43页 |
| 2.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 第3章 奇模SP干涉光刻技术的研究 | 第45-57页 |
| 3.1 引言 | 第45-46页 |
| 3.2 奇模SP干涉光刻的设计原理与模拟结果 | 第46-50页 |
| 3.3 样品结构制备与光刻实验 | 第50-52页 |
| 3.4 实验结果与分析 | 第52-54页 |
| 3.5 进一步提高干涉图形质量与分辨率的方法 | 第54-56页 |
| 3.6 本章小结 | 第56-57页 |
| 第4章 腔体式SP成像光刻用于超表面全息图的制备研究 | 第57-77页 |
| 4.1 引言 | 第57-58页 |
| 4.2 腔体式SP成像光刻结构与原理 | 第58-61页 |
| 4.3 成像光场的仿真与分析 | 第61-65页 |
| 4.4 样品制备与实验条件 | 第65-67页 |
| 4.4.1 掩模与样品的制备过程 | 第65-66页 |
| 4.4.2 光刻与刻蚀传递实验 | 第66页 |
| 4.4.3 图形表征与测试 | 第66页 |
| 4.4.4 全息效果测试实验 | 第66-67页 |
| 4.5 实验结果与分析 | 第67-73页 |
| 4.5.1 光刻实验 | 第67-69页 |
| 4.5.2 光刻图形的刻蚀传递 | 第69-71页 |
| 4.5.3 全息设计原理与样品的全息效果测试 | 第71-73页 |
| 4.6 大面积彩色纳米全息超表面的制备与效果测试 | 第73-75页 |
| 4.7 本章小结 | 第75-77页 |
| 第5章 反射式SP光刻用于LSPR传感芯片制备的研究 | 第77-89页 |
| 5.1 引言 | 第77-78页 |
| 5.2 反射式SP成像光刻原理与结构 | 第78-82页 |
| 5.3 工艺流程与实验方法 | 第82-83页 |
| 5.4 实验结果与分析 | 第83-85页 |
| 5.5 所制备LSPR传感芯片的光谱测试 | 第85-86页 |
| 5.6 掩模的拓展设计与实验结果 | 第86-88页 |
| 5.7 本章小结 | 第88-89页 |
| 第6章 高分辨率小分子体系i-线光刻胶的制备研究 | 第89-97页 |
| 6.1 引言 | 第89-90页 |
| 6.2 光刻胶合成与光刻反应机理 | 第90-91页 |
| 6.3 光刻胶溶液的配制 | 第91页 |
| 6.4 光刻胶的基本性能表征与评估 | 第91-93页 |
| 6.5 光刻胶的光刻质量与分辨率 | 第93-95页 |
| 6.6 本章小结 | 第95-97页 |
| 第7章 总结与展望 | 第97-101页 |
| 7.1 论文主要创新点 | 第97-98页 |
| 7.2 未来工作展望 | 第98-101页 |
| 参考文献 | 第101-109页 |
| 附录 注释说明汇集表 | 第109-111页 |
| 致谢 | 第111-113页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第113页 |