| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 研究背景 | 第10页 |
| 1.2 液滴的制备方法及研究现状 | 第10-14页 |
| 1.2.1 真空系统中高温蒸发法 | 第10-12页 |
| 1.2.2 聚焦离子束诱导纳米液滴的生长 | 第12-14页 |
| 1.3 液滴的应用 | 第14-20页 |
| 1.3.1 液滴外延生长技术 | 第14-15页 |
| 1.3.2 纳米自钻孔技术 | 第15-18页 |
| 1.3.3 自催化生长纳米线 | 第18-20页 |
| 1.3.4 表面等离子体共振 | 第20页 |
| 1.4 本论文的研究意义和内容 | 第20-22页 |
| 第二章 实验技术及理论 | 第22-34页 |
| 2.1 聚焦离子束（FIB） | 第22-25页 |
| 2.1.1 聚焦离子束原理及结构 | 第22-24页 |
| 2.1.2 聚焦离子束的应用 | 第24-25页 |
| 2.1.2.1 离子束刻蚀 | 第24页 |
| 2.1.2.2 离子束沉积薄膜 | 第24页 |
| 2.1.2.3 无掩模离子注入 | 第24-25页 |
| 2.1.2.4 透射电子显微镜样品制备 | 第25页 |
| 2.2 扫描电子显微镜（SEM） | 第25-26页 |
| 2.2.1 加速电压 | 第25-26页 |
| 2.2.2 电子探针 | 第26页 |
| 2.2.3 扫描速度和信噪比 | 第26页 |
| 2.2.4 次电子和散射电子 | 第26页 |
| 2.3 原子力显微镜（AFM） | 第26-28页 |
| 2.4 离子束诱导液滴产生的理论 | 第28-34页 |
| 2.4.1 溅射模型 | 第28-30页 |
| 2.4.2 液滴的形成 | 第30-34页 |
| 2.4.2.1 衬底温度 | 第31页 |
| 2.4.2.2 在非正常入射下液滴有序性的理论模型 | 第31-34页 |
| 第三章 离子束轰击砷化镓在表面自组织产生液滴的有序性演变 | 第34-45页 |
| 3.1 引言 | 第34-35页 |
| 3.2 实验部分 | 第35-36页 |
| 3.2.1 准备样品 | 第35页 |
| 3.2.2 实验流程 | 第35-36页 |
| 3.2.3 样品表征 | 第36页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第36-43页 |
| 3.3.1 不同离子束入射角度对于液滴的影响 | 第36-40页 |
| 3.3.2 不同离子束电流对于液滴的影响 | 第40-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 基于聚焦离子束诱导的位置可控生长镓金属液滴 | 第45-58页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 实验部分 | 第45-46页 |
| 4.2.1 准备样品 | 第45-46页 |
| 4.2.2 实验流程 | 第46页 |
| 4.2.3 样品表征 | 第46页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第46-56页 |
| 4.3.1 离子束轰击时间对无缺陷区域液滴形貌的影响 | 第46-48页 |
| 4.3.2 离子束入射角度对无缺陷区域液滴形貌的影响 | 第48-50页 |
| 4.3.3 停留时间(Dwell Time)对无缺陷区域液滴形貌的影响 | 第50-51页 |
| 4.3.4 离子束电流对无缺陷区域液滴形貌的影响 | 第51-53页 |
| 4.3.5 单列液滴和双列液滴 | 第53-55页 |
| 4.3.6 单液滴及其他液滴结构 | 第55-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 结论 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-68页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第68-69页 |
