光刻胶剥离工艺IPA消减方法研究

摘要	第3-5页
ABSTRACT	第5-6页
第一章 TFT-LCD 的发明与发展	第8-12页
1.1 液晶的发现及其光电特性	第8页
1.2 A-SI:H TFT-LCD 器件的诞生	第8-9页
1.3 TFT-LCD 显示器件的应用	第9-10页
1.4 2010 年TFT-LCD 市场发展动向	第10-11页
1.5 本章小结	第11-12页
第二章 TFT-LCD 器件的阵列构造及显示原理	第12-16页
2.1 TFT-LCD 器件的阵列构造	第12-13页
2.2 TFT-LCD 器件的显示原理	第13-15页
2.3 本章小结	第15-16页
第三章 TFT-LCD 面板的阵列制造过程	第16-34页
3.1 TFT-LCD 面板制造过程概述	第16-17页
3.2 ARRAY 工程	第17-33页
3.3 本章小结	第33-34页
第四章 光刻胶剥离工艺IPA 消减方法研究	第34-62页
4.1 剥离工艺概述	第34-36页
4.2 IPA 对剥离的意义	第36-38页
4.3 IPA 的环境问题	第38页
4.4 IPA 消减方案提出及对比验证	第38-61页
4.5 本章小结	第61-62页
第五章 全文总结	第62-65页
5.1 主要结论	第62-63页
5.2 研究展望	第63-65页
参考文献	第65-66页
致谢	第66-67页
攻读硕士学位期间已发表或录用的论文	第67-70页
上海交通大学学位论文答辩决议书	第70页