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一般性问题
大晶粒多晶Si薄膜的结构特征与光电特性
硅上原子层沉积与物理气相沉积Pt薄膜的技术研究
磁控溅射法制备掺钒氧化锌薄膜的结构及性能研究
多孔超低k材料薄膜的制备和性能表征
小尺寸半导体器件中硅化物工艺优化及缺陷改进研究
硅基锑化铟薄膜的制备与光电性能研究
GaN/AlGaN多量子阱薄膜微结构与光电性能研究
SiO2薄膜的PECVD生长研究
外延技术的发展与应用
HVPE法生长厚膜GaN
高分辨X射线衍射技术在GaN LED生产中的应用
铋基氧化物半导体薄膜的制备与光伏性能研究
TiO2-ZnO异质结构薄膜杀菌特性研究
TM模808LD外延片MOCVD外延生长研究
生产型MOCVD电气控制系统的研发
MOCVD反应室温度场的研究
ZnO/p-Si异质结制备优化及光电性能研究
一维宽禁带半导体气相沉积及气敏性研究
一种新型MOCVD反应腔体多物理耦合分析与实验研究
多元金属氧化物n型半导体薄膜制备与性能研究
Si上锑化物的MOCVD成核生长特性研究及热光伏器件结构模拟
图形衬底异质外延纳米岛应变弛豫机制研究
二维半导体材料迁移率的第一性原理研究
蓝宝石和LSAT衬底上氧化钛薄膜的制备及性质研究
六方氧化镓薄膜的制备及氮化与掺杂特性研究
脉冲激光沉积法制备非极性面ZnOS薄膜及其性能研究
HCD法制备ITO薄膜的研究
射频磁控溅射沉积CuAlO2薄膜的工艺优化与性能研究
P型CuCrO2薄膜的磁控溅射法制备工艺优化与性能研究
透明氧化物半导体薄膜的制备及其光电特性的研究
HVPE法制备高质量GaN单晶研究
原子层沉积方法制备非极性面ZnO异质结及其物性研究
化学气相沉积设备尾气过滤系统的研究与分析
图形化金属基底上的石墨烯CVD生长研究
溶剂热合成技术制备铜锌锡硫半导体薄膜
PECVD氮化硅薄膜性能研究及热学测试结构设计
多光束薄膜应力测绘系统的设计
射频磁控溅射法制备ZrO2薄膜及其特性研究
PIN结构InAs/GaSb超晶格的MBE生长与性能研究
分子束外延生长InGaN纳米阵列及物性研究
ZnO薄膜和MgZnO合金薄膜的生长及其特性研究
CuFeO2薄膜的制备及其光电催化性能的研究
大尺寸HVPE反应器寄生沉积的数值模拟与优化
半导体Mg2Si薄膜的Al掺杂研究
MOCVD TiN阻挡层薄膜工艺性能研究
大马士革铜阻挡氮化硅薄膜沉积工艺的优化研究
氮化锌粉末与氮化锌薄膜的制备
磁控溅射法制备MgxNi1-xO薄膜及其表征
超晶格材料的子带结构
LEC法生长GaP单晶
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