| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第6-11页 |
| 1.1 金属硅化物工艺的演变 | 第6-11页 |
| 第二章 镍硅化物工艺简介 | 第11-22页 |
| 2.1 镍硅化物工艺简介 | 第11-13页 |
| 2.1.1 一步式热退火工艺流程 | 第11页 |
| 2.1.2 两步式热退火工艺流程 | 第11-12页 |
| 2.1.3 两种工艺流程的优缺点概述 | 第12-13页 |
| 2.2 原位晶圆化学预清理工艺SICONI工艺简介 | 第13-16页 |
| 2.2.1 SICON化学原位预清理工艺简介 | 第13页 |
| 2.2.2 化学蚀刻 | 第13-14页 |
| 2.2.3 热退火升华 | 第14页 |
| 2.2.4 SICONI工艺化学反应方程式 | 第14-15页 |
| 2.2.5 SICONI工艺流程示意图 | 第15页 |
| 2.2.6 两种晶圆预清理工艺优缺点对比 | 第15-16页 |
| 2.3 SICONI工艺腔简介 | 第16-17页 |
| 2.4 镍金属及氮化钛保护层沉积技术 | 第17-22页 |
| 2.4.1 物理气相沉积技术简介 | 第17-21页 |
| 2.4.2 镍金属/合金沉积腔体概述 | 第21页 |
| 2.4.3 镍金属保护层氮化钛沉积腔体概述 | 第21-22页 |
| 第三章 问题描述及实验目的 | 第22-31页 |
| 3.1 晶圆表面预清理工艺问题描述 | 第22-24页 |
| 3.1.1 蚀刻选择比及均匀度问题 | 第22页 |
| 3.1.2 蚀刻均匀度问题 | 第22-23页 |
| 3.1.3 预清理副产物颗粒缺陷的影响 | 第23-24页 |
| 3.2 镍铂合金组分对生长硅化物影响 | 第24-25页 |
| 3.3 实验目的 | 第25-26页 |
| 3.4 实验材料和设备 | 第26-27页 |
| 3.4.1 实验材料 | 第26页 |
| 3.4.2 实验设备 | 第26-27页 |
| 3.5 实验内容 | 第27-31页 |
| 3.5.1 不同介质材料在SICONI预清理工艺中蚀刻速度对比 | 第27页 |
| 3.5.2 SICONI蚀刻选择比调试 | 第27-28页 |
| 3.5.3 三氟化氮与氦气流量对比实验 | 第28-29页 |
| 3.5.4 热退火氢气流量与退火时间对比实验 | 第29页 |
| 3.5.5 镍铂合金厚度及硅化物第一次热对比退火实验 | 第29-31页 |
| 第四章 实验结果分析 | 第31-39页 |
| 4.1 SICONI工艺蚀刻性能实验分析 | 第31-35页 |
| 4.1.1 空白晶圆硅化物实验结果分析 | 第31-33页 |
| 4.1.2 SICONI工艺热退火实验分析 | 第33-35页 |
| 4.2 镍铂硅化物实验分析 | 第35-39页 |
| 4.2.1 空白晶圆硅化物实验结果分析 | 第35-36页 |
| 4.2.2 产品晶圆硅化物实验结果分析 | 第36-39页 |
| 第五章 总结 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-42页 |
| 致谢 | 第42-43页 |
