| 摘要 | 第10-12页 |
| ABSTRACT | 第12-14页 |
| 符号说明 | 第15-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-35页 |
| 1.1 概述 | 第17-18页 |
| 1.2 TiO_2薄膜的性质及应用 | 第18-23页 |
| 1.2.1 结构性质 | 第18-19页 |
| 1.2.2 光电性质 | 第19-20页 |
| 1.2.3 TiO_2薄膜的应用 | 第20-23页 |
| 1.3 TiO_2薄膜的研究现状 | 第23-24页 |
| 1.4 课题的选取及研究内容 | 第24-26页 |
| 本章参考文献 | 第26-35页 |
| 第二章 薄膜制备方法及性质测试分析 | 第35-53页 |
| 2.1 TiO_2薄膜的制备方法 | 第35-38页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积 | 第35-36页 |
| 2.1.2 溅射 | 第36页 |
| 2.1.3 化学气相沉积 | 第36-37页 |
| 2.1.4 原子层沉积 | 第37页 |
| 2.1.5 分子束外延 | 第37-38页 |
| 2.1.6 溶胶-凝胶法 | 第38页 |
| 2.2 金属有机化学气相沉积(MOCVD)介绍 | 第38-43页 |
| 2.2.1 MOCVD的原理和特点 | 第38-39页 |
| 2.2.2 本论文使用的MOCVD系统 | 第39-43页 |
| 2.3 样品的制备 | 第43-45页 |
| 2.3.1 实验前的准备 | 第43-44页 |
| 2.3.2 薄膜生长的工艺流程 | 第44-45页 |
| 2.4 薄膜性质测试方法 | 第45-50页 |
| 2.4.1 结构和形貌分析 | 第45-48页 |
| 2.4.2 元素成分分析 | 第48-49页 |
| 2.4.3 光学性质分析 | 第49-50页 |
| 本章参考文献 | 第50-53页 |
| 第三章 蓝宝石衬底上TiO_2薄膜制备和性质研究 | 第53-77页 |
| 3.1 蓝宝石衬底的选取及TiO_2薄膜的制备 | 第53-54页 |
| 3.2 A面蓝宝石衬底上TiO_2薄膜的性质研究 | 第54-59页 |
| 3.2.1 衬底温度对TiO_2薄膜结构的影响 | 第54-56页 |
| 3.2.2 TiO_2薄膜的元素组分分析 | 第56-58页 |
| 3.2.3 TiO_2薄膜的光学性质 | 第58-59页 |
| 3.3 C面蓝宝石衬底上TiO_2薄膜的性质研究 | 第59-64页 |
| 3.3.1 衬底温度对TiO_2薄膜结构的影响 | 第59-61页 |
| 3.3.2 TiO_2薄膜的元素组分分析 | 第61-63页 |
| 3.3.3 TiO_2薄膜的光学性质 | 第63-64页 |
| 3.4 M面蓝宝石衬底上TiO_2薄膜的性质研究 | 第64-74页 |
| 3.4.1 衬底温度对TiO_2薄膜结构的影响 | 第64-65页 |
| 3.4.2 生长速率对TiO_2薄膜结构的影响 | 第65-67页 |
| 3.4.3 TiO_2薄膜的外延生长机理和微结构 | 第67-70页 |
| 3.4.4 TiO_2薄膜的元素组分分析 | 第70-72页 |
| 3.4.5 TiO_2薄膜的光学性质分析 | 第72-74页 |
| 本章参考文献 | 第74-77页 |
| 第四章 LSAT衬底上TiO_2薄膜制备和性质研究 | 第77-89页 |
| 4.1 LSAT(001)衬底上TiO_2薄膜的制备 | 第77-78页 |
| 4.2 TiO_2薄膜结构性质的研究 | 第78-82页 |
| 4.2.1 衬底温度对薄膜结构的影响 | 第78-79页 |
| 4.2.2 衬底温度对薄膜表面形貌的影响 | 第79-81页 |
| 4.2.3 生长速率对薄膜结构的影响 | 第81-82页 |
| 4.3 TiO_2薄膜的外延及微结构分析 | 第82-84页 |
| 4.4 TiO_2薄膜的元素组分分析 | 第84-86页 |
| 4.5 TiO_2薄膜的光学性质 | 第86-88页 |
| 本章参考文献 | 第88-89页 |
| 第五章 结论 | 第89-91页 |
| 硕士期间发表论文目录 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92-93页 |
| Paper | 第93-98页 |
| 附件 | 第98页 |