| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| §1.1 日盲区和日盲材料简介 | 第8-10页 |
| §1.2 NiO和MgO的性质概述 | 第10-13页 |
| §1.3 选题的背景和工作目的 | 第13-14页 |
| §1.4 研究现状和可行性分析 | 第14-17页 |
| 第二章 MgxNil-xO薄膜的制备方法及其理论基础 | 第17-23页 |
| §2.1 目前氧化镍薄膜的主要制备方法简介 | 第17-19页 |
| §2.2 磁控溅射法的物理基础和重要参数 | 第19-21页 |
| §2.3 溅射法制备薄膜的优点 | 第21-23页 |
| 第三章 样品的制备及分析方法 | 第23-35页 |
| §3.1 制备设备简介 | 第23-25页 |
| §3.2 样品的制备过程 | 第25-32页 |
| §3.3 样品的分析方法 | 第32-35页 |
| 第四章 MgxNil-xO薄膜的结构与光学特性 | 第35-46页 |
| §4.1 衬底材料对MgxNil-xO薄膜的结构性质的影响 | 第35-36页 |
| §4.2 Mg的含量对MgxNil-xO薄膜的性质的影响 | 第36-40页 |
| §4.3 制备条件对MgxNil-xO薄膜结构的影响 | 第40-43页 |
| §4.4 退火温度对MgxNil-xO薄膜结构的影响 | 第43-46页 |
| 第五章 结论 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第52页 |
