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图形化金属基底上的石墨烯CVD生长研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1 绪论第9-15页
    1.1 研究背景及意义第9页
    1.2 石墨烯图形化生长的研究概况第9-12页
    1.3 石墨烯在金属防腐领域的应用第12-13页
    1.4 本文研究内容第13-15页
2 CVD方法生长石墨烯第15-24页
    2.1 化学气相淀积第15页
    2.2 石墨烯CVD生长的机理第15-16页
    2.3 CVD生长参数对石墨烯质量的影响第16-23页
    2.4 本章小结第23-24页
3 图形化铜膜基底上生长石墨烯第24-40页
    3.1 图形化铜膜基底上生长石墨烯的工艺步骤第24-28页
    3.2 CVD生长前后铜膜基底状况的变化第28-33页
    3.3 CVD生长参数对石墨烯质量的影响第33-38页
    3.4 本章小结第38-40页
4 图形化镍膜基底上生长石墨烯第40-48页
    4.1 图形化镍膜基底上生长石墨烯的工艺步骤第40-42页
    4.2 CVD生长前后镍膜基底状况的变化第42-45页
    4.3 镍膜厚度和尺寸对石墨烯质量的影响第45-46页
    4.4 本章小结第46-48页
5 图形化铜/镍薄膜基底上生长石墨烯第48-59页
    5.1 图形化铜/镍薄膜基底上生长石墨烯的工艺步骤第48-50页
    5.2 不同种类图形化基底上石墨烯生长的差异第50-54页
    5.3 铜/镍复合金属基底上石墨烯生长特性研究第54-57页
    5.4 图形化的石墨烯/金属复合结构的抗腐蚀特性第57-58页
    5.5 本章小结第58-59页
6 总结与展望第59-61页
    6.1 工作总结第59-60页
    6.2 工作展望第60-61页
致谢第61-62页
参考文献第62-66页
附录1 攻读硕士学位期间发表的论文及申请的专利第66页

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