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脉冲激光沉积法制备非极性面ZnOS薄膜及其性能研究

摘要第5-7页
Abstract第7-9页
第1章 绪论第12-23页
    1.1 ZnO的结构和基本性质第12-14页
    1.2 ZnO的能带调节第14-18页
        1.2.1 等价阳离子取代第14-17页
        1.2.2 等价阴离子取代第17-18页
        1.2.3 等价阴阳离子共掺取代第18页
    1.3 量子限制斯塔克效应第18-19页
    1.4 非极性材料的优点及缺点第19-20页
        1.4.1 非极性材料的优点第19页
        1.4.2 非极性材料的缺点第19-20页
    1.5 本课题的选题思路和主要研究内容第20-23页
        1.5.1 选题背景第20-21页
        1.5.2 研究内容第21-23页
第2章 薄膜材料的制备工艺及分析测试方法第23-36页
    2.1 薄膜的生长技术简介第23-26页
        2.1.1 薄膜物理气相沉积第23-24页
        2.1.2 薄膜化学气相沉积第24-25页
        2.1.3 常见的薄膜外延生长技术第25-26页
    2.2 脉冲激光沉积(PLD)技术[13,45]第26-29页
        2.2.1 脉冲激光沉积(PLD)概述第26-27页
        2.2.2 脉冲激光沉积(PLD)沉积设备简介第27-29页
    2.3 非极性面ZnOS薄膜的制备工艺第29-30页
    2.4 非极性面ZnOS薄膜的分析测试方法第30-36页
        2.4.1 原子力显微镜第30-31页
        2.4.2 高分辨率X射线衍射第31-33页
        2.4.3 紫外-可见分光光度计第33页
        2.4.4 X射线光电子能谱第33-34页
        2.4.5 二次离子质谱第34-36页
第3章 非极性a面取向ZnOS薄膜的制备及性能研究第36-46页
    3.1 样品的制备第36-37页
    3.2 实验结果与讨论第37-45页
        3.2.1 氧压对ZnOS薄膜结构的影响第37-42页
        3.2.2 非极性a面取向ZnOS薄膜的表面形貌第42-43页
        3.2.3 氧压对ZnOS薄膜光学性能的影响第43-45页
    3.3 本章小结第45-46页
第4章 非极性m面取向ZnOS薄膜的制备及性能研究第46-56页
    4.1 样品制备第46页
    4.2 实验结果与讨论第46-54页
        4.2.1 衬底温度对ZnOS薄膜结构的影响第46-52页
        4.2.2 衬底温度对m面ZnOS薄膜表面形貌的影响第52页
        4.2.3 衬底温度对m面ZnOS薄膜成分的影响第52-53页
        4.2.4 衬底温度对m面ZnOS薄膜光学性能的影响第53-54页
    4.3 本章小结第54-56页
第5章 在ZnO缓冲层上制备非极性a面及m面ZnOS薄膜及其性能研究第56-63页
    5.1 样品制备第56-57页
    5.2 实验结果与讨论第57-62页
        5.2.1 衬底温度对ZnOS薄膜结构的影响第57-61页
        5.2.2 衬底温度对ZnOS薄膜表面的影响第61页
        5.2.3 衬底温度对ZnOS薄膜光学带隙的影响第61-62页
    5.3 本章小结第62-63页
总结第63-65页
参考文献第65-70页
附录第70-71页
致谢第71页

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