中文摘要 | 第3-5页 |
目录 | 第5-7页 |
前言 | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第9-16页 |
1.1 磷化镓半导体材料 | 第9-13页 |
1.2 LEC法拉制磷化镓单晶国内外发展及研究状况 | 第13-15页 |
1.3 本课题研究背景及目的 | 第15-16页 |
第二章 磷化镓的性质及发光机理 | 第16-35页 |
2.1 磷化镓的基本性质 | 第16-20页 |
2.2 磷化镓的发光机理 | 第20-35页 |
第三章 LEC法拉制磷化镓单晶的工艺 | 第35-55页 |
3.1 LEC法拉制磷化镓的基本原理 | 第35-39页 |
3.2 LEC法拉制磷化镓的原料准备 | 第39-45页 |
3.3 LEC法拉制磷化镓的实验设备 | 第45-47页 |
3.4 LEC法拉制磷化镓的炉内气氛 | 第47-50页 |
3.5 关于拉速的选择 | 第50-52页 |
3.6 关于硅污染的问题 | 第52-53页 |
3.7 实验工艺流程 | 第53-55页 |
第四章 LEC法拉制磷化镓单晶的试验 | 第55-62页 |
4.1 原料来源 | 第55页 |
4.2 实验过程 | 第55-57页 |
4.3 实验数据 | 第57-62页 |
第五章 结论 | 第62-64页 |
致谢 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-68页 |