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多孔超低k材料薄膜的制备和性能表征

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第8-21页
    1.1 多孔低介电常数薄膜的研究背景第8-9页
    1.2 多孔低介电常数薄膜的性能要求第9-15页
    1.3 多孔低介电常数薄膜研究的主要进展第15-19页
    1.4 本论文主要研究的内容第19-21页
第二章 多孔低介电常数薄膜的制备和测试第21-27页
    2.1 引言第21页
    2.2 薄膜制备和测试第21-22页
    2.3 制备薄膜的方法第22-23页
        2.3.1 溶胶凝胶的特点第22-23页
        2.3.2 旋涂方法第23页
    2.4 薄膜的各项测试第23-25页
    2.5 本章小结第25-27页
第三章 多孔低介电常数材料薄膜的各性能分析第27-42页
    3.1 引言第27页
    3.2 薄膜材料的制备流程第27-28页
    3.3 不同溶液组分配比对低k薄膜材料的影响第28-35页
        3.3.1 薄膜材料的表面形貌第29-31页
        3.3.2 薄膜材料的化学组成第31页
        3.3.3 薄膜材料的电学特性第31-35页
    3.4 不同退火温度对低k薄膜材料的影响第35-40页
        3.4.1 表面形貌第35页
        3.4.2 低k薄膜材料的热稳定性第35-37页
        3.4.3 低k薄膜材料的C-V特性第37-39页
        3.4.4 低k薄膜材料的漏电流密度和击穿特性第39页
        3.4.5 低k薄膜材料的力学特性第39-40页
    3.5 本章小结第40-42页
第四章 总结与展望第42-45页
参考文献第45-49页
硕士阶段完成论文与专利第49-50页
致谢第50-51页

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