| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| ·光刻技术简介 | 第11-16页 |
| ·接触/接近式光刻 | 第12-13页 |
| ·投影式光刻 | 第13-14页 |
| ·粒子束刻蚀 | 第14页 |
| ·激光干涉光刻 | 第14-16页 |
| ·表面等离子体激元(Surface Plasmon Polariton,SPP)简介 | 第16-18页 |
| ·表面等离子体激元的基本性质 | 第16-17页 |
| ·局域表面等离子体激元的基本性质 | 第17-18页 |
| ·拉曼散射简介 | 第18-19页 |
| ·表面增强拉曼散射(SERS)简介 | 第19-20页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第20-21页 |
| 参考文献 | 第21-23页 |
| 第二章 利用干涉光刻制备微纳结构 | 第23-47页 |
| ·干涉光刻原理 | 第23-24页 |
| ·利用脉冲光双光束干涉制备光栅 | 第24-31页 |
| ·AR-N7520/4负性光刻胶曝光工艺流程 | 第25-28页 |
| ·光刻光路 | 第28页 |
| ·脉冲光刻写光栅结果 | 第28-29页 |
| ·金属光栅的制备 | 第29-31页 |
| ·数字微镜设备(DMD)与六棱镜结合进行点阵结构的刻写 | 第31-39页 |
| ·DMD与棱镜干涉光刻的原理简介 | 第32-33页 |
| ·利用棱镜进行多光束干涉的强度计算 | 第33-35页 |
| ·DMD与棱镜结合光刻实验过程 | 第35-38页 |
| ·多光束干涉强度分布的模拟结果 | 第38-39页 |
| ·数字微镜设备(DMD)无掩膜投影光刻 | 第39-43页 |
| ·DMD无掩膜投影光刻光路搭建 | 第39-40页 |
| ·DMD无掩膜光刻实例 | 第40-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-47页 |
| 第三章 金属尖端角度大小对SERS影响的研究 | 第47-59页 |
| ·表面拉曼散射增强(SERS)的基本原理 | 第47-51页 |
| ·SERS物理增强机制 | 第47-48页 |
| ·SERS增强因子的计算 | 第48-51页 |
| ·金属尖端角度大小对SERS影响的研究 | 第51-56页 |
| ·角度不同金属尖端的制备 | 第51-53页 |
| ·不同角度结构SERS谱的测量 | 第53-55页 |
| ·利用FDTD模拟不同角度结构SERS谱 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 第四章 论文总结与展望 | 第59-61页 |
| ·主要研究工作 | 第59页 |
| ·展望 | 第59-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表的工作 | 第61页 |
| 本论文的研究工作得到一下基金的资助 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |