基于SU-8光刻胶的微透镜及阵列的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·微光机电系统(MOEMS) | 第10-12页 |
| ·微透镜概述 | 第12-13页 |
| ·微透镜及其阵列制造技术 | 第13-19页 |
| ·本文的主要工作和内容安排 | 第19-22页 |
| 第二章 微透镜及其阵列设计与制作工艺 | 第22-32页 |
| ·微透镜的制作原理与设计 | 第22-25页 |
| ·制作原理 | 第22-25页 |
| ·微透镜的制作工艺 | 第25-30页 |
| ·光刻胶的选择 | 第25-26页 |
| ·基片预处理 | 第26-27页 |
| ·涂胶 | 第27页 |
| ·前烘 | 第27-28页 |
| ·曝光 | 第28-29页 |
| ·后烘 | 第29页 |
| ·微复制工艺 | 第29-30页 |
| ·实验内容 | 第30页 |
| ·本章小结 | 第30-32页 |
| 第三章 实验结果的测量与分析 | 第32-46页 |
| ·微透镜形貌的测量 | 第32-33页 |
| ·实验结果分析 | 第33-43页 |
| ·掩膜图案宽度对微透镜的影响 | 第33-38页 |
| ·光刻胶厚度对微透镜的影响 | 第38-39页 |
| ·后烘温度降温过程对微透镜的影响 | 第39-40页 |
| ·微透镜光学特性分析 | 第40-42页 |
| ·填充因子 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-46页 |
| 第四章 微透镜的软件模拟仿真 | 第46-54页 |
| ·Surface Evolver软件介绍 | 第46-47页 |
| ·理论基础与算法设计 | 第47-50页 |
| ·模拟结果与分析 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第五章 总结与展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 附录 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 在读期间发表的学术论文和取得的研究成果 | 第64页 |
