自定义照明模式分辨力增强技术研究
| 致谢 | 第1-4页 |
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-22页 |
| ·课题的研究背景和意义 | 第11-17页 |
| ·集成电路及光学光刻技术的发展 | 第11-13页 |
| ·分辨力增强技术(RET)[5,6] | 第13-17页 |
| ·国内外研究现状 | 第17-21页 |
| ·计算光刻技术的发展 | 第17-19页 |
| ·光源掩模优化技术(SMO)的研究现状 | 第19-21页 |
| ·本文的主要研究内容及结构安排 | 第21-22页 |
| 第二章 投影光学光刻系统基本成像模型 | 第22-42页 |
| ·投影光学光刻系统简介 | 第22-23页 |
| ·投影光学光刻系统空间像模型 | 第23-31页 |
| ·空间像标量模型 | 第24-29页 |
| ·空间像矢量模型 | 第29-30页 |
| ·空间像强度归一化 | 第30-31页 |
| ·光刻胶模型 | 第31-36页 |
| ·全物理模型 | 第31-34页 |
| ·简化光刻胶模型 | 第34-36页 |
| ·仿真软件编制 | 第36-41页 |
| ·光源表示方法 | 第36-37页 |
| ·掩模表示方法 | 第37-38页 |
| ·程序编写 | 第38-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第三章 光源优化设计方法 | 第42-68页 |
| ·评价函数的定义 | 第42-47页 |
| ·主要的光刻性能指标 | 第42-43页 |
| ·成像精确度表征 | 第43-46页 |
| ·工艺窗口表征 | 第46页 |
| ·综合评价函数的构建 | 第46-47页 |
| ·光源优化设计算法概述 | 第47-50页 |
| ·模拟退火算法 | 第47-49页 |
| ·最速下降法 | 第49-50页 |
| ·参数光源最优化求解 | 第50-54页 |
| ·自由形状的光源最优化求解 | 第54-66页 |
| ·对一维掩模成像的自由光源优化分析 | 第55-59页 |
| ·对二维掩模成像的自由光源优化分析 | 第59-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第四章 投影光刻系统的物镜像差分析 | 第68-83页 |
| ·物镜像差对光刻成像的影响分析 | 第68-75页 |
| ·波像差的表示方法 | 第68-71页 |
| ·Zernike多项式各项对成像影响的理论分析 | 第71-75页 |
| ·像差敏感度分析 | 第75-79页 |
| ·离轴照明对像差敏感度的影响分析 | 第79-82页 |
| ·本章小结 | 第82-83页 |
| 第五章 光源敏感度分析 | 第83-97页 |
| ·掩模的频谱分析 | 第83-88页 |
| ·双光束成像和三光束成像 | 第83-85页 |
| ·掩模频谱的调制方法 | 第85-88页 |
| ·光源敏感度计算 | 第88-91页 |
| ·空间像对光源的敏感度计算 | 第88-89页 |
| ·对比度对光源的敏感度计算 | 第89-90页 |
| ·NILS对光源的敏感度计算 | 第90页 |
| ·掩模误差放大因子(MEEF)对光源的敏感度计算 | 第90-91页 |
| ·光源敏感度的应用 | 第91-96页 |
| ·本章小结 | 第96-97页 |
| 第六章 光源误差分析 | 第97-109页 |
| ·激光器带宽的影响分析 | 第97-100页 |
| ·照明光瞳不对称性的影响分析 | 第100-108页 |
| ·光瞳极不平衡性对成像性能的影响 | 第102-105页 |
| ·光瞳偏心对成像的影响 | 第105-108页 |
| ·本章小结 | 第108-109页 |
| 第七章 总结与展望 | 第109-112页 |
| ·本论文主要研究内容及结论 | 第109-110页 |
| ·本论文的创新点 | 第110-111页 |
| ·研究工作展望 | 第111-112页 |
| 参考文献 | 第112-119页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第119-120页 |
