半导体外延生长对光刻对准的影响

中文摘要	第1-4页
ABSTRACT	第4-6页
第一章 绪论	第6-13页
·大规模集成电路制造简介	第6-9页
·半导体外延生长原理简介	第9-11页
·半导体光刻对准原理简介	第11页
·研究光刻对准与外延生长的相关性和重要性	第11-12页
·课题内容、背景与意义	第12-13页
第二章 光刻工艺流程简介及对准原理	第13-20页
·光刻的工艺流程简介	第13-18页
·光刻对准的重要性	第18-20页
第三章 外延生长的方法和基本原理	第20-31页
·外延在半导体中的功能	第20-21页
·外延生长所使用的气体	第21-22页
·外延生长前的清洗	第22-23页
·外延生长的原理介绍	第23-25页
·外延生长的中的掺杂	第25-26页
·外延生长所使用的机台	第26-27页
·外延生长中重要的制程参数	第27-28页
·外延生长中常见的几种缺陷	第28-31页
第四章 外延生长和光刻对准的相关性研究	第31-41页
·外延生长中的图形漂移	第31页
·图形漂移对光刻对准的影响	第31-32页
·在外延工艺中利用温度来控制图形漂移的方法	第32-41页
第五章 结论与意义	第41-42页
参考文献	第42-44页
发表论文和科研情况说明	第44-45页
致谢	第45页