局域表面等离子体纳米光刻原理与方法研究
| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第1章 前言 | 第9-23页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·表面等离子体的研究历史背景 | 第10页 |
| ·表面等离子体纳米光刻的研究进展 | 第10-13页 |
| ·表面等离子体纳米光刻理论基础 | 第13-20页 |
| ·表面等离子体存在基本条件 | 第13-16页 |
| ·表面等离子体激发方式 | 第16-18页 |
| ·局域表面等离子体 | 第18-19页 |
| ·表面等离子体算法简介 | 第19-20页 |
| ·本文的主要研究内容及章节安排 | 第20-23页 |
| 第2章 增强型局域表面等离子体聚焦原理方法 | 第23-31页 |
| ·表面等离子体纳米光刻器件 | 第23-24页 |
| ·Bowtie孔径结构原理与设计 | 第24-28页 |
| ·Bowtie孔径结构 | 第24-25页 |
| ·Bowtie孔径结构中的两种共振形式 | 第25-27页 |
| ·Bowtie孔径结构仿真结果 | 第27-28页 |
| ·Ag-Pr-Ag结构原理与设计 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29-31页 |
| 第3章 BMIM纳米聚焦光刻结构优化设计 | 第31-48页 |
| ·BMIM纳米聚焦光刻结构 | 第31-32页 |
| ·BMIM纳米聚焦光刻结构仿真结果 | 第32-39页 |
| ·BMIM光刻结构焦斑强度与尺寸变化规律 | 第32-34页 |
| ·BMIM与BI光刻结构电场分量分布 | 第34-35页 |
| ·不同工作距下，BMIM光刻结构光刻效果 | 第35-36页 |
| ·BMIM光刻结构曝光深度计算模型 | 第36-39页 |
| ·结构参数优化 | 第39-45页 |
| ·Bowtie孔径结构参数优化 | 第39-42页 |
| ·BMIM光刻结构各层厚度优化 | 第42-44页 |
| ·BMIM光刻结构掩模材料优化 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-48页 |
| 第4章 BMIM纳米聚焦光刻结构验证实验 | 第48-62页 |
| ·Bowtie孔径阵列的设计与加工 | 第48-50页 |
| ·Bowtie孔径阵列设计方案 | 第48-49页 |
| ·Bowtie孔径阵列加工结果分析 | 第49-50页 |
| ·Ag-Pr-Ag结构 | 第50-52页 |
| ·Ag-Pr-Ag结构的制作与表征 | 第50-52页 |
| ·Ag的介电常数 | 第52页 |
| ·近场曝光实验 | 第52-54页 |
| ·曝光显影过程 | 第52-53页 |
| ·光刻图形传递过程 | 第53-54页 |
| ·实验结果分析 | 第54-58页 |
| ·不同曝光剂量下实验结果分析 | 第54-57页 |
| ·实验结果对比分析 | 第57-58页 |
| ·实验方案改进设计 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-62页 |
| 第5章 结束语 | 第62-64页 |
| ·本文的主要工作 | 第62页 |
| ·有待进一步解决的问题 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第6页 |
