含螺噁嗪的光致变色薄膜微纳周期结构制备技术研究

摘要	第1-4页
ABSTRACT	第4-6页
第一章 绪论	第6-15页
·集成电路发展与应用	第6-8页
·光刻技术的概况	第8-9页
·激光干涉光刻技术的目的和意义	第9-10页
·激光干涉光刻技术的应用	第10-12页
·光致变色的概述	第12-13页
·本论文主要研究内容	第13-15页
第二章 无掩模激光干涉光刻基本理论	第15-24页
·相干光干涉的基本理论	第15-18页
·双光束干涉曝光基本原理	第18-22页
·三光束干涉曝光	第22-24页
第三章 变周期光栅动力学特性及其荧光特性	第24-36页
·不同光栅周期在相同光强形成的动力学特性	第24-29页
·角度相同写入功率不同情况	第29-30页
·不同光栅周期不同功率下动力学特性	第30-32页
·微纳周期结构荧光图	第32-35页
·影响实验因素	第35-36页
第四章多重全息光栅形成机制	第36-47页
·正交全息光栅的制备	第36页
·双光束多次曝光	第36-38页
·多重全息光栅动力学分析	第38-41页
·对多重光栅动力学的理论描述	第41-44页
·三光束干涉光刻	第44-47页
第五章 总结	第47-48页
致谢	第48-49页
参考文献	第49-51页
攻读硕士学位期间发表的学术论文及其它成果	第51页