DMD投影光刻系统的开发设计及其在光刻、液晶光控取向方面的应用
| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| ·传统光刻技术 | 第10-11页 |
| ·无掩模光刻系统 | 第11-16页 |
| ·Ikuta小组 | 第12-13页 |
| ·Bertsch小组 | 第13-14页 |
| ·张翔小组 | 第14页 |
| ·Choi小组 | 第14-15页 |
| ·Maruo小组 | 第15-16页 |
| ·液晶光取向技术 | 第16-22页 |
| ·光取向发展简介 | 第16页 |
| ·光取向机制 | 第16-19页 |
| ·液晶光控选区取向技术的进展 | 第19-22页 |
| ·本文研究目的 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-30页 |
| 第二章 光学设计与投影镜头的设计 | 第30-59页 |
| ·简单光学像差理论 | 第30-37页 |
| ·像差 | 第30-35页 |
| ·衍射 | 第35-37页 |
| ·利用ZEMAX优化设计光学系统 | 第37-46页 |
| ·BOSA简介与像差分析 | 第37-41页 |
| ·ZEMAX模拟与分析 | 第41-46页 |
| ·投影微刻镜头的设计 | 第46-57页 |
| ·前组镜头设计 | 第47-51页 |
| ·后组镜头设计 | 第51-57页 |
| ·公差分析 | 第57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 第三章 DMD投影光刻系统的搭建与初步实验 | 第59-73页 |
| ·基于DMD的投影光刻系统 | 第59-65页 |
| ·光源 | 第59-60页 |
| ·光束整形与传递 | 第60-61页 |
| ·图形产生 | 第61-63页 |
| ·图形缩微 | 第63-64页 |
| ·CCD调焦 | 第64-65页 |
| ·系统的装调与测试 | 第65-72页 |
| ·系统的装配与调校 | 第65-69页 |
| ·光刻实验 | 第69-72页 |
| 参考文献 | 第72-73页 |
| 第四章 聚合物液晶光栅和液晶的光控取向技术 | 第73-94页 |
| ·Talbot效应制备聚合物液晶光栅 | 第73-80页 |
| ·Talbot现象和分数效应 | 第73-76页 |
| ·Talbot光刻法制作聚合物分散液晶光栅 | 第76-80页 |
| ·DMD光刻系统制备液晶取向结构 | 第80-91页 |
| ·实验过程 | 第80-82页 |
| ·实验结果与讨论 | 第82-91页 |
| ·任意选区的液晶取向 | 第82-84页 |
| ·周期液晶相位光栅 | 第84-86页 |
| ·准周期液晶结构 | 第86-89页 |
| ·不同扭转角度的TN取向区域 | 第89-91页 |
| 参考文献 | 第91-94页 |
| 第五章 总结 | 第94-97页 |
| 参考文献 | 第95-97页 |
| 附录 | 第97-100页 |
| 攻读博士学位期间已发表或待发表的论文 | 第100-102页 |
| 致谢 | 第102-103页 |
