| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-13页 |
| ·本论文的研究背景、意义 | 第9-10页 |
| ·论文框架和主要内容 | 第10-11页 |
| ·创新与不足 | 第11-13页 |
| ·本论文的创新之处如下： | 第11页 |
| ·本论文的不足之处主要有： | 第11-13页 |
| 第二章 光子晶体理论 | 第13-20页 |
| ·光子晶体的产生与发展 | 第13-14页 |
| ·光子晶体结构 | 第14页 |
| ·光子晶体分类 | 第14-15页 |
| ·一维光子晶体 | 第15页 |
| ·二维光子晶体 | 第15页 |
| ·三维光子晶体 | 第15页 |
| ·光子晶体的制备方法 | 第15-17页 |
| ·机械打孔法 | 第16页 |
| ·胶体自组织技术 | 第16-17页 |
| ·逐层叠加法 | 第17页 |
| ·3D打印 | 第17页 |
| ·激光全息光刻法 | 第17页 |
| ·光子晶体的应用 | 第17-20页 |
| ·光子晶体光纤 | 第17-18页 |
| ·光子晶体光波导 | 第18页 |
| ·光子晶体低阈值激光器 | 第18页 |
| ·光子晶体光控光开关 | 第18-19页 |
| ·光子晶体薄膜 | 第19-20页 |
| 第三章 激光全息光刻理论 | 第20-26页 |
| ·全息光刻理论 | 第20-22页 |
| ·激光全息光刻实验装置介绍 | 第22-24页 |
| ·氦镉激光器 | 第22-23页 |
| ·氦氖激光器及其装置 | 第23-24页 |
| ·光致抗蚀剂介绍 | 第24-26页 |
| ·光致抗蚀剂 | 第24页 |
| ·光致抗蚀剂曝光模型分析 | 第24-26页 |
| 第四章 基于PVC为基底的光子晶体柔性薄膜的制备工艺 | 第26-36页 |
| ·实验过程 | 第26-27页 |
| ·实验流程及原理 | 第26页 |
| ·实验材料 | 第26-27页 |
| ·掩模板制备 | 第27-28页 |
| ·掩模板的设计 | 第27-28页 |
| ·掩模板的制作 | 第28页 |
| ·实验工艺 | 第28-32页 |
| ·基底预处理 | 第28-29页 |
| ·甩胶、前烘 | 第29-30页 |
| ·曝光、后烘 | 第30-32页 |
| ·显影、烘干 | 第32页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第32-36页 |
| ·影响实验结果因素分析 | 第32-33页 |
| ·实验结果 | 第33-36页 |
| 第五章全息光刻制备基于铬版的二维光子晶体 | 第36-41页 |
| ·实验材料、仪器 | 第36页 |
| ·制备原理及其光路设计分析 | 第36-37页 |
| ·实验制备工艺 | 第37-39页 |
| ·铬版预处理 | 第37页 |
| ·曝光、后烘 | 第37-38页 |
| ·显影 | 第38页 |
| ·刻蚀 | 第38-39页 |
| ·去胶、烘干 | 第39页 |
| ·实验结果分析 | 第39-41页 |
| 第六章 基于PDMS材料的二维光子晶体的制备工艺 | 第41-50页 |
| ·模具的设计与制备 | 第41-43页 |
| ·模具的设计 | 第41-42页 |
| ·基于激光全息光刻法制备模芯 | 第42-43页 |
| ·柔性PDMS薄膜光子晶体的制备 | 第43-47页 |
| ·模具清洗 | 第44页 |
| ·PDMS配制 | 第44页 |
| ·去气泡、注射成型 | 第44-45页 |
| ·加热固化 | 第45-46页 |
| ·质量影响因素分析 | 第46-47页 |
| ·样品检测、分析 | 第47-50页 |
| ·显微镜观测 | 第47-48页 |
| ·红外检测 | 第48-50页 |
| 第七章 基于模压全息的三维光子晶体的制备工艺 | 第50-55页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·复制技术比较 | 第50-51页 |
| ·模压复制实验 | 第51-52页 |
| ·原始全息图母版制备 | 第51页 |
| ·模压母模的制作工艺 | 第51-52页 |
| ·模压制造技术 | 第52页 |
| ·基于叠层技术形成三维光子晶体 | 第52-53页 |
| ·结果与讨论 | 第53-55页 |
| 第八章 总结与展望 | 第55-57页 |
| ·论文工作总结 | 第55页 |
| ·今后研究展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 攻读硕士学位期间参与发表的学术论文、专利 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |