基于超声振动的硅片边缘抛光研究
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-9页 |
1 绪论 | 第9-21页 |
·硅片加工技术 | 第9-12页 |
·硅片及其加工工艺 | 第9-11页 |
·硅片化学机械抛光技术 | 第11-12页 |
·超声抛光技术研究概况 | 第12-16页 |
·超声抛光技术的研究背景 | 第12-13页 |
·超声抛光技术的研究现状 | 第13-16页 |
·硅片边缘抛光国内外研究现状 | 第16-20页 |
·课题的主要研究内容 | 第20-21页 |
2 硅片边缘分析 | 第21-30页 |
·硅片边缘的形成 | 第21-22页 |
·硅片边缘轮廓 | 第22-26页 |
·硅片边缘轮廓规范 | 第22-24页 |
·实验所用硅片边缘轮廓 | 第24-26页 |
·硅片边缘缺陷 | 第26-29页 |
·边缘缺陷类型及产生的原因 | 第26-28页 |
·边缘缺陷的处理方法 | 第28-29页 |
·小结 | 第29-30页 |
3 压电式硅片边缘抛光工具 | 第30-47页 |
·压电式抛光工具的理论基础 | 第30-36页 |
·压电效应与压电方程 | 第30-32页 |
·压电式抛光工具的工作原理 | 第32-36页 |
·基于 ANSYS 的抛光工具动态分析 | 第36-41页 |
·抛光工具的工作面设计 | 第36-37页 |
·抛光工具的有限元分析 | 第37-39页 |
·抛光工具的基本结构 | 第39-41页 |
·抛光工具的改造加工制作 | 第41-43页 |
·夹具的设计 | 第41-42页 |
·抛光工具及夹具的加工 | 第42-43页 |
·抛光工具振动特性测试实验 | 第43-46页 |
·实验仪器及测试原理 | 第43-44页 |
·振动特性测试实验 | 第44-46页 |
·小结 | 第46-47页 |
4 硅片边缘超声振动抛光原理及实验系统 | 第47-57页 |
·硅片边缘超声振动抛光原理 | 第47-52页 |
·抛光实验系统 | 第52-55页 |
·抛光实验工作台 | 第52-53页 |
·抛光实验装置 | 第53-55页 |
·抛光实验监测系统 | 第55-56页 |
·小结 | 第56-57页 |
5 硅片边缘超声振动抛光实验研究 | 第57-69页 |
·抛光实验条件 | 第57-60页 |
·影响实验的主要因素 | 第57-59页 |
·实验条件的设定 | 第59-60页 |
·边缘抛光实验 | 第60-62页 |
·实验结果测试及分析 | 第62-68页 |
·硅片边缘测试方法 | 第62-63页 |
·实验结果与分析 | 第63-68页 |
·小结 | 第68-69页 |
6 结论 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-72页 |
攻读硕士期间发表学术论文情况 | 第72-73页 |
致谢 | 第73页 |