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激光干涉光刻织构化硅表面及微摩擦性能研究

致谢第1-5页
摘要第5-6页
Abstract第6-11页
图清单第11-17页
表清单第17-18页
变量注释表第18-19页
1 绪论第19-33页
   ·研究背景第19-20页
   ·微观摩擦学的发展与研究第20-23页
   ·表面微织构技术第23-28页
   ·激光干涉光刻的研究与应用第28-30页
   ·课题研究意义及主要内容第30-33页
2 激光干涉光刻的理论基础与 MATLAB 模拟第33-43页
   ·激光干涉的基本理论第33-36页
   ·激光干涉光刻的计算机模拟第36-42页
   ·本章小结第42-43页
3 双光束激光干涉光刻的实验研究第43-61页
   ·干涉光刻实验系统及工艺流程第43-47页
   ·双光束激光干涉光刻实验结果第47-51页
   ·双尺度织构光刻实验结果第51-55页
   ·图形转移-化学湿法刻蚀第55-60页
   ·本章小结第60-61页
4 织构化硅表面的摩擦学特性研究第61-83页
   ·原子力显微镜测量原理第61-62页
   ·探针-平面接触第62-69页
   ·胶体球-平面接触第69-73页
   ·粘附机理第73-76页
   ·摩擦机理第76-82页
   ·本章小结第82-83页
5 外电场作用下探针-平面接触微摩擦第83-91页
   ·AFM 电控摩擦测试第83-87页
   ·电控摩擦机理第87-89页
   ·本章小结第89-91页
6 总结与展望第91-93页
   ·总结第91页
   ·展望第91-93页
参考文献第93-99页
作者简历第99-101页
学位论文数据集第101页

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