基于DMD的数字光刻技术研究
摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-10页 |
第1章 绪论 | 第10-21页 |
·研究背景 | 第10页 |
·无掩模光刻技术的研究现状 | 第10-14页 |
·基于DMD的数字光刻的研究现状 | 第14-20页 |
·论文的主要内容 | 第20-21页 |
第2章 基于DMD的数字光刻系统 | 第21-39页 |
·系统的总体架构 | 第21-22页 |
·前端照明系统 | 第22-29页 |
·数字微镜器件(DMD) | 第29-31页 |
·投影光刻物镜 | 第31-33页 |
·光刻系统的曝光模式 | 第33-37页 |
·本章小结 | 第37-39页 |
第3章 DMD的衍射特性 | 第39-52页 |
·DMD的衍射模型 | 第39-42页 |
·衍射特性的测量与仿真 | 第42-44页 |
·DMD衍射特性在光刻系统中的应用 | 第44-50页 |
·本章小结 | 第50-52页 |
第4章 系统误差的分析与校正 | 第52-68页 |
·照明不均匀性的分析与校正 | 第52-56页 |
·光刻物镜的畸变 | 第56-60页 |
·机械系统的误差 | 第60-64页 |
·系统误差的校正 | 第64-66页 |
·本章小结 | 第66-68页 |
第5章 总结与展望 | 第68-69页 |
·总结 | 第68页 |
·展望 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-74页 |
在学期间学术成果情况 | 第74-75页 |
指导教师及作者简介 | 第75-76页 |
致谢 | 第76页 |