基于SOCS的光学光刻系统仿真算法的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-17页 |
| ·集成电路技术发展概况 | 第7-10页 |
| ·纳米级集成电路的可制造性问题 | 第10-12页 |
| ·集成电路 EDA技术的发展 | 第12-14页 |
| ·目前世界上相关的研究状况 | 第14-15页 |
| ·论文组织安排 | 第15-17页 |
| 第二章 集成电路光刻工艺 | 第17-32页 |
| ·集成电路制造工艺 | 第17-18页 |
| ·光学光刻工艺 | 第18-24页 |
| ·曝光工具 | 第20-22页 |
| ·光刻胶 | 第22-23页 |
| ·掩模 | 第23-24页 |
| ·分辨率增强技术 | 第24-28页 |
| ·光学邻近效应校正 | 第25-26页 |
| ·移相掩模技术 | 第26-28页 |
| ·下一代光刻技术 | 第28-32页 |
| 第三章 光刻系统模型与SOCS算法 | 第32-44页 |
| ·光刻系统模型框架 | 第32-39页 |
| ·光学成像模型 | 第33-36页 |
| ·光刻胶对成像系统的影响 | 第36-37页 |
| ·可变偏差模型 | 第37-38页 |
| ·光刻系统模型算法流程 | 第38-39页 |
| ·SOCS算法简介 | 第39-44页 |
| ·光学成像模型算法流程 | 第39页 |
| ·TCC矩阵 | 第39-40页 |
| ·空间点光强计算的必要性 | 第40-41页 |
| ·SOCS算法推导 | 第41-44页 |
| 第四章 基于SOCS的光学成像系统的实现 | 第44-66页 |
| ·光学成像仿真系统简介 | 第44-45页 |
| ·Mask模块的实现 | 第45-53页 |
| ·掩模的频谱函数 | 第46-52页 |
| ·掩模函数的扩充 | 第52-53页 |
| ·Inten模块的实现 | 第53-60页 |
| ·卷积核与特征值 | 第54-55页 |
| ·N阶近似 | 第55-56页 |
| ·模拟结果 | 第56-60页 |
| ·对基于SOCS的仿真算法的优化 | 第60-66页 |
| ·对卷积核个数的优化 | 第60-63页 |
| ·算法描述 | 第60-61页 |
| ·实例结果 | 第61-63页 |
| ·对特征值大小的优化 | 第63-66页 |
| ·算法描述 | 第63-64页 |
| ·实例结果 | 第64-66页 |
| 第五章 总结与展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
